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J-GLOBAL ID：201803021079406085

二元細孔酸化物の製造方法

Inventor： 高橋 亮治 ,  佐藤 文哉 ,  西田 和史 ,  長谷川 俊雄 ,  二宮 航 ,  宮氣 健一
Applicant, Patent owner： 国立大学法人愛媛大学 ,  三菱ケミカル株式会社
Agent (2)： 宮崎 昭夫 ,  緒方 雅昭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2016117761
Publication number (International publication number)：2017222529
Application date： Jun. 14, 2016
Publication date： Dec. 21, 2017
Summary：

【課題】二元細孔酸化物を製造するにあたり、非水溶性ポリマーを使用可能にし、もって使用可能なポリマーの選択幅を拡大し、所望のポリマー原料から二元細孔酸化物を製造することを可能とする。【解決手段】ナノ細孔およびマクロ細孔を有する二元細孔酸化物の製造方法であって、非水溶性ポリマーを可溶化処理して可溶化処理したポリマーを得る工程と、水、可溶化処理したポリマー、シリカ源および酸触媒を含むゾル液を調製するゾル液調製工程と、該ゾル液をゲル化させるゲル化工程と、ゲル化工程から得られるゲルを乾燥する乾燥工程とを含む、二元細孔酸化物の製造方法。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

ナノ細孔およびマクロ細孔を有する二元細孔酸化物の製造方法であって、 非水溶性ポリマーを可溶化処理して可溶化処理したポリマーを得る工程と、 水、可溶化処理したポリマー、シリカ源および酸触媒を含むゾル液を調製するゾル液調製工程と、 該ゾル液をゲル化させるゲル化工程と、 ゲル化工程から得られるゲルを乾燥する乾燥工程と を含む、二元細孔酸化物の製造方法。

IPC (1)：

C01B 33/16

FI (1)：

C01B33/16

F-Term (21)：

4G072AA25 ,  4G072AA35 ,  4G072BB15 ,  4G072GG03 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ15 ,  4G072JJ16 ,  4G072JJ30 ,  4G072JJ42 ,  4G072JJ47 ,  4G072KK01 ,  4G072KK07 ,  4G072KK17 ,  4G072LL11 ,  4G072MM31 ,  4G072PP17 ,  4G072RR05 ,  4G072RR20 ,  4G072UU13 ,  4G072UU15 ,  4G072UU17

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 二元細孔シリカ及びシリカージルコニアの熱的特性