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J-GLOBAL ID：201902014361840020   Reference number：19S2656058

Sub-half-micron i-line lithography by use of lmr-uv resist

Author (6)： Jinbo, Hideyuki (Oki Electric Industry Co. Ltd.) ,  Yamashita, Yoshio (Oki Electric Industry Co. Ltd.) ,  Endo, Akihiro (Oki Electric Industry Co. Ltd.) ,  Nishibu, Satoshi (Fuji Chemicals Industrial Co. Ltd.) ,  Umehara, Hiroshi (Fuji Chemicals Industrial Co. Ltd.) ,  Asano, Takateru (Fuji Chemicals Industrial Co. Ltd.)
Material： Japanese Journal of Applied Physics
Volume： 28  Issue： 10 R  Page： 2053-2057  Publication year： 1989 
JST Material Number： SCOPUS  ISSN： 0021-4922 
Language： English (EN)