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J-GLOBAL ID：201902110549862593   Reference number：19S2402322

Transport properties of silicon nanostructures fabricated on SIMOX substrates

Author (10)： Murase, Katsumi (NTT LSI Laboratories) ,  Takahashi, Yasuo (NTT LSI Laboratories) ,  Nakajima, Yasuyuki (NTT LSI Laboratories) ,  Namatsu, Hideo (NTT LSI Laboratories) ,  Nagase, Masao (NTT LSI Laboratories) ,  Kurihara, Kenji (NTT LSI Laboratories) ,  Iwadate, Kazumi (NTT LSI Laboratories) ,  Horiguchi, Seiji (NTT LSI Laboratories) ,  Tabe, Michiharu (NTT LSI Laboratories) ,  Izumi, Katsutoshi (NTT LSI Laboratories)
Material： Microelectronic Engineering
Volume： 28  Issue： 1-4  Page： 399-405  Publication year： 1995 
JST Material Number： SCOPUS  ISSN： 0167-9317  CODEN： MIENE 
Language： English (EN)

Terms in the title (1)： SIMOX