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J-GLOBAL ID：201902221796308959   Reference number：19A2299030

(TiO₂)_1-x(TaON)_x Solid Solution for Band Engineering of Anatase TiO₂

アナターゼTiO_2のバンド工学のための(TiO_2)_1-x(TaON)_x固溶体【JST・京大機械翻訳】

Author (6)： Suzuki Atsushi (Department of Chemistry, The University of Tokyo, Japan) ,  Hirose Yasushi (Department of Chemistry, The University of Tokyo, Japan) ,  Hirose Yasushi (Kanagawa Academy of Science and Technology, Japan) ,  Nakao Shoichiro (Kanagawa Academy of Science and Technology, Japan) ,  Hasegawa Tetsuya (Department of Chemistry, The University of Tokyo, Japan) ,  Hasegawa Tetsuya (Kanagawa Academy of Science and Technology, Japan)
Material： Chemistry of Materials  (Chem Mater)
Volume： 30  Issue： 24  Page： 8789-8794  Publication year： 2018 
JST Material Number： T0893A  ISSN： 0897-4756  CODEN： CMATEX  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Abstract/Point： Band engineering of anatase Ti...

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Thesaurus term： epitaxy ,  *solid solution ,  band gap ,  thin film growth ,  *anatase ,  thin film ,  conduction band ,  valence band ,  chemical composition ,  photocatalyst ,  X-ray diffraction ,  refractive index ,  lattice constant ,  visible light ,  pulsed laser deposition
Semi thesaurus term： Vegard則 , 【Automatic Indexing@JST】

JST classification (2)： Bases,metal oxides  (CD01030Z) ,  Photochemistry in general  (CB08010U)

Terms in the title (5)： アナターゼ ,  バンド ,  工学 ,  TaON ,  固溶体