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J-GLOBAL ID：201902223512022425   Reference number：19A1964688

Fabrication of graphite by pulsed light irradiation of network silicon bearing anthryl groups

アントリル基を有するネットワークシリコンのパルス光照射による黒鉛の作製【JST・京大機械翻訳】

Author (3)： Tachibana Hiroaki (National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Central 5, Higashi 1-1-1, Tsukuba 305-8565, Japan) ,  Mizuno Toya (National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Central 5, Higashi 1-1-1, Tsukuba 305-8565, Japan) ,  Azumi Reiko (National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Central 5, Higashi 1-1-1, Tsukuba 305-8565, Japan)
Material： Thin Solid Films
Volume： 686  Page： Null  Publication year： 2019 
JST Material Number： B0899A  ISSN： 0040-6090  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Abstract/Point： We report structural changes o...

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Thesaurus term： optimization ,  Raman spectroscopy ,  *Graphite ,  spin coating ,  *network ,  *silicon ,  atomic force microscope ,  X-ray ,  film thickness ,  sheet resistance ,  photoelectron ,  Raman spectrometry ,  structural change ,  *pulsed light ,  modification
Semi thesaurus term： マイクロ秒 , 【Automatic Indexing@JST】

Author keywords (4)： Pulsed light irradiation ,  Network silicon ,  Anthryl group ,  Graphite film

JST classification (4)： Semiconductor thin films  (BK14040E) ,  Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A) ,  Metallic thin films  (BK14030T) ,  Solar cell  (NC03084O)

Terms in the title (5)： シリコン ,  パルス ,  光照射 ,  黒鉛 ,  作製