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J-GLOBAL ID：201902227176339889   Reference number：19A0691502

Microanalysis of silicon protrusions with a titanium cap formed via surface melting and solidification under applied tensile stress

引張応力下での表面融解と凝固により形成されたチタンキャップを用いたシリコン突起のミクロ分析

Author (2)： NISHIMURA Takashi (Suzuka Coll., Mie, JPN) ,  TOMITORI Masahiko (Japan Advanced Inst. of Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 58  Issue： 2  Page： 025501.1-025501.7  Publication year： Feb. 2019 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *tensile stress ,  *surface melting ,  *freezing and solidification ,  *titanium ,  cap ,  *silicon ,  *projection portion ,  *microanalysis ,  electron diffraction ,  Auger electron spectroscopy ,  microscope ,  scanning electron microscope ,  resistance heating ,  focused ion beam ,  sampling ,  crystal orientation ,  electromigration ,  freezing point depression
Semi thesaurus term： micro analysis ,  EBSD ,  Auger electron spectroscopy ,  microsampling method ,  Si(111)

JST classification (1)： Crystal growth of semiconductors  (BK13040X)

Reference (38)：

• M. Iwamoto, K. Kaneto, and S. Mashiko, Nanotechnology and Nano-Interface Controlled Electronic Devices (Elsevier Science B.V., Amsterdam, 2003) 1st ed., p. 3.
• J. Eizenkop, I. Avrutsky, D. Georgiev, and V. Chaudchary, J. Appl. Phys. 103, 094311 (2008).
• A. C. Tam, RIKEN Rev. 32, 71 (2002).
• S. J. Henley, J. D. Carey, and S. R. P. Silva, Phys. Rev. B 72, 195408 (2005).
• Y. Kojima and T. Kato, Nanotechnology 19, 255605 (2008).

Terms in the title (8)： 引張応力 ,  表面融解 ,  凝固 ,  チタン ,  キャップ ,  シリコン ,  突起 ,  ミクロ分析