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J-GLOBAL ID：201902231201440839   Reference number：19A0768089

Current Status of Material Characterization by Synchrotron Radiation Nanobeam X-ray Diffraction

シンクロトロン放射ナノビームX線回折による物質特性評価の現状

Author (3)： IMAI YASUHIKO ((公財)高輝度光科学研究センター) ,  SUMITANI KAZUSHI ((公財)高輝度光科学研究センター) ,  KIMURA SHIGERU ((公財)高輝度光科学研究センター)
Material： 日本結晶学会誌  (Journal of the Crystallographic Society of Japan)
Volume： 61  Issue： 1  Page： 51-55(J-STAGE)  Publication year： 2019 
JST Material Number： G0232A  ISSN： 0369-4585  CODEN： NKEGAF  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *synchrotron radiation ,  *X-Ray Diffraction ,  beam ,  space resolving power ,  high-resolution ,  single crystal ,  artificial superlattice ,  *nanostructure ,  *semiconductor device ,  gallium nitride ,  indium compound ,  gallium compound ,  *nitride ,  compound semiconductor ,  MOCVD ,  solid state device ,  Germanium ,  *germanium base alloy ,  tin containing alloy ,  *semiconductor thin film ,  *residual strain ,  MBE growth ,  light-emitting device ,  *gallium indium nitride ,  CMOS memory
Semi thesaurus term： nano beam ,  *gallium indium nitride ,  CMOS素子

JST classification (1)： Semiconductor thin films  (BK14040E)

Reference (13)：

• 1)D. K. Bowen and B. K. Tanner: High Resolution X-ray Diffraction and Topography, Taylor & Francis (1998).
• 2)J. Stangl, C. Mocuta, V. Chamard and D. Carnone: Nanobeam X-Ray Scattering, Wiley-VCH (2014).
• 3)G. A. Chahine, et al.: J. Appl. Cryst. 47, 762 (2014).
• 4)C. E. Murray, et al.: Powder Diffraction 23, 106 (2008).
• 5)D. Dzhigaev, et al.: ACS Nano 11, 6605 (2017).

Terms in the title (6)： シンクロトロン放射 ,  ナノビーム ,  X線回折 ,  物質 ,  特性評価 ,  現状