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J-GLOBAL ID：201902231472046156   Reference number：19A1820254

Silicon nitride nanopore created by dielectric breakdown with a divalent cation: deceleration of translocation speed and identification of single nucleotides

二価カチオンによる絶縁破壊により生成した窒化ケイ素ナノ細孔 転位速度の減速と単一ヌクレオチドの同定【JST・京大機械翻訳】

Author (4)： Goto Yusuke (Center for Technology Innovation - Healthcare, Research & Development Group, Hitachi Ltd, 1-280 Higashi-Koigakubo, Kokubunji, Tokyo 185-8601, Japan. [e-mail]) ,  Matsui Kazuma ,  Yanagi Itaru ,  Takeda Ken-ichi
Material： Nanoscale
Volume： 11  Issue： 30  Page： 14426-14433  Publication year： 2019 
JST Material Number： W2323A  ISSN： 2040-3364  CODEN： NANOHL  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Abstract/Point： Nanopore DNA sequencing with a...

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Thesaurus term： temperature dependence ,  monomer ,  single-stranded DNA ,  strong interaction ,  *cation ,  enthalpy ,  *silicon nitride ,  *dielectric breakdown ,  *nucleotide ,  metal ion ,  electric current
Semi thesaurus term： 移動速度 ,  超高速 ,  DNA配列 ,  *ナノ細孔 , 【Automatic Indexing@JST】

JST classification (2)： Nucleic acids in general  (EB04010U) ,  Other properties of polymer solids  (CG02025L)

Terms in the title (8)： 二価カチオン ,  絶縁破壊 ,  窒化ケイ素 ,  ナノ細孔 ,  転位速度 ,  減速 ,  ヌクレオチド ,  同定