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J-GLOBAL ID：201902240296019545   Reference number：19A1706992

Changes of RHEED intensity with hydrogen position on metal surface

金属表面上の水素位置によるRHEED強度の変化【JST・京大機械翻訳】

Author (4)： Kawamura T. (Institute of Industrial Science, University of Tokyo, Komaba, Meguro-ku, Tokyo 153-8505, Japan) ,  Kawamura T. (Center for Ceramic Matrix Composites, Tokyo University of Technology, Hachioji, Tokyo 192-0982, Japan) ,  Fukutani K. (Institute of Industrial Science, University of Tokyo, Komaba, Meguro-ku, Tokyo 153-8505, Japan) ,  Fukutani K. (Advanced Science Research Center, Japan Atomic Energy Agency (JAEA), Tokai, Ibaraki 319-1195, Japan)
Material： Surface Science  (Surface Science Letters)
Volume： 688  Page： 7-13  Publication year： 2019 
JST Material Number： C0129B  ISSN： 0039-6028  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Abstract/Point： Based on the multiple scatteri...

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Thesaurus term： *hydrogen ,  *RHEED ,  multiple scattering ,  azimuth angle ,  diffraction ,  adsorption ,  rocking curve ,  structure analysis ,  surface relaxation ,  dipping
Semi thesaurus term： 水素原子 ,  *金属表面 , 【Automatic Indexing@JST】

Author keywords (4)： RHEED ,  Structure analysis of H on metal surface ,  H on Ni(111) ,  Subsurface H position

JST classification (3)： Inorganic compounds and elements in general  (CD01010D) ,  Semiconductor thin films  (BK14040E) ,  Solid-gos interface in general.  (CB12041H)

Terms in the title (3)： 金属表面 ,  水素 ,  RHEED