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J-GLOBAL ID：201902249447481278   Reference number：19A0610715

STEM-EELS Study of Dynamic Behavior of Helium in Si

STEM-EELS法によるSi中のHeの挙動に関する研究

Author (4)： ONO KOTARO (島根大学総合理工学部) ,  MIYAMOTO MITSUTAKA (島根大学総合理工学部) ,  KURATA HIROKI (京都大学化学研究所) ,  HARUTA MITSUTAKA (京都大学化学研究所)
Material： まてりあ  (Materia Japan)
Volume： 58  Issue： 2  Page： 89(J-STAGE)  Publication year： 2019 
JST Material Number： F0163A  ISSN： 1340-2625  CODEN： MTERE2  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： scanning transmisson electron microscope ,  *electron energy loss spectroscopy ,  silicon ,  ion irradiation ,  bubble ,  *Helium ,  single crystal ,  chemical polishing ,  Brownian motion ,  coalescence ,  ion density ,  runoff ,  Temperature ,  annealing (heat treatment) ,  spectral analysis ,  *electron microscopy ,  behavior ,  interaction ,  *lattice defect ,  radiation defect ,  machining
Semi thesaurus term： EELS method ,  STEM(microscope) ,  粗大化 ,  dynamic behaviour

Author keywords (3)： STEM-EELS ,  He babble ,  silicon

JST classification (2)： Irradiational changes semiconductors  (BK16123E) ,  Metallography  (WB01010R)

Terms in the title (6)： STEM ,  EELS法 ,  Si ,  He ,  挙動 ,  研究