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J-GLOBAL ID：201902265547577226   Reference number：19A0621530

Fabrication of aluminum microwires through artificial weak spots in a thick film using stress-induced migration

応力誘起マイグレーションを用いた厚膜中の人工弱スポットによるアルミニウムマイクロワイヤの作製【JST・京大機械翻訳】

Author (3)： Lee Hsin-Tzu (Department of Finemechanics, Tohoku University, Aoba 6-6-0, Aramaki, Aoba-ku, Sendai 980-8579, Japan) ,  Kimura Yasuhiro (Department of Finemechanics, Tohoku University, Aoba 6-6-0, Aramaki, Aoba-ku, Sendai 980-8579, Japan) ,  Saka Masumi (Department of Finemechanics, Tohoku University, Aoba 6-6-0, Aramaki, Aoba-ku, Sendai 980-8579, Japan)
Material： AIMS Materials Science (Web)
Volume： 5  Issue： 4  Page： 591-602  Publication year： 2018 
JST Material Number： U7114A  ISSN： 2372-0484  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Abstract/Point： With recent advances in techno...

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Thesaurus term： passivation ,  optimum condition ,  metallic thin film ,  *thick film ,  multistory structure ,  *Aluminum ,  mass production ,  reactivity ,  Hydrostatic Pressure ,  nanomaterial ,  nano-whisker ,  atomic diffusion ,  stress gradient ,  *microwire ,  modification
Semi thesaurus term： ヒロック , 【Automatic Indexing@JST】

Author keywords (4)： microwire ,  stress-induced migration ,  thick film ,  artificial weak spot

JST classification (2)： Crystal growth of metals  (BK13030M) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (9)： 応力 ,  誘起 ,  マイグレーション ,  厚膜 ,  人工 ,  スポット ,  アルミニウム ,  マイクロワイヤ ,  作製