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J-GLOBAL ID：201902273995033395   Reference number：19A1796850

Evaluation of Thick-Film Photoresist for Grayscale Lithography Utilizing Direct Laser Writing

レーザ直接描画を用いたグレイスケールリソグラフィにおける厚膜レジストの評価

Author (4)： SHOJI MASAAKI (東北大) ,  JOTAKI HIDEO (ハイデルベルグ・インストルメンツ) ,  MORIYAMA MASAAKI (東北大) ,  TOTSU KENTARO (東北大)
Material： 電気学会研究会資料
Issue： MSS-19-011-028.030-034 マイクロマシン・センサシステム研究会  Page： 35-39  Publication year： Jul. 01, 2019 
JST Material Number： Z0924B  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *laser lithography ,  gray scale ,  thick film ,  resist ,  structural skeleton ,  array ,  microlens ,  exposure(photography)

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (4)： レーザ直接描画 ,  厚膜 ,  レジスト ,  評価