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J-GLOBAL ID：201902277314102880   Reference number：19A0900893

Enhancement of ArF immersion scanner system for advanced device node manufacturing

先進デバイスノード製造のためのArF浸漬スキャナシステムの強化【JST・京大機械翻訳】

Author (8)： Hikida Yujiro (Nikon Corp. (Japan)) ,  Hayakawa Akira (Nikon Corp. (Japan)) ,  Teshima Yoshihiro (Nikon Corp. (Japan)) ,  Dosho Tomonori (Nikon Corp. (Japan)) ,  Kasai Noriaki (Nikon Corp. (Japan)) ,  Yoda Yasushi (Nikon Corp. (Japan)) ,  Masaki Kazuo (Nikon Corp. (Japan)) ,  Shibazaki Yuichi (Nikon Corp. (Japan))
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 10587  Page： 105870X-11  Publication year： 2018 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Abstract/Point： In order to meet the industry’...

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Thesaurus term： *scanner ,  alignment ,  *dipping ,  ground system ,  leading edge ,  pattern formation
Semi thesaurus term： *フッ化アルゴン , 【Automatic Indexing@JST】

JST classification (5)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Meteorology in general  (DC05010D) ,  Graphic and image processing in general  (JE04010I) ,  Semiconductor thin films  (BK14040E) ,  Infrared photometry and photodetectors  (BD07032W)

Terms in the title (5)： ノード ,  ARF ,  浸漬 ,  スキャナ ,  強化