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J-GLOBAL ID：201902279711520755   Reference number：19A2901172

CMP characteristics of quartz glass substrate by aggregated colloidal ceria slurry

凝集コロイド状セリアスラリーによる石英ガラス基板のCMP特性【JST・京大機械翻訳】

Author (4)： Wakamatsu Kaito (Department of Mechanical Engineering, Kyushu University, 819-0395, Fukuoka, Japan) ,  Kurokawa Syuhei (Department of Mechanical Engineering, Kyushu University, 819-0395, Fukuoka, Japan) ,  Toyama Takaaki (Department of Mechanical Engineering, Kyushu University, 819-0395, Fukuoka, Japan) ,  Hayashi Terutake (Department of Mechanical Engineering, Kyushu University, 819-0395, Fukuoka, Japan)
Material： Precision Engineering  (Precis Eng)
Volume： 60  Page： 458-464  Publication year： 2019 
JST Material Number： A0734B  ISSN： 0141-6359  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Abstract/Point： Colloidal ceria is expected to...

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Thesaurus term： *cerium oxide ,  calcinating ,  *Quartz ,  *silica glass ,  *aggregation ,  *colloid ,  polishing (machining) ,  slurry ,  scratch ,  polishing characteristic ,  ultrasonic dispersion ,  high quality ,  *glass substrate ,  machining
Semi thesaurus term： 除去率 , 【Automatic Indexing@JST】

Author keywords (9)： Polishing ,  CMP ,  Colloidal ceria ,  Calcined ceria ,  Aggregation ,  Quartz glass ,  Scratch ,  Slurry concentration ,  Polishing pressure

JST classification (2)： Grinding  (QC03000R) ,  Other surface treatment  (WC08070F)

Terms in the title (6)： 凝集 ,  コロイド ,  セリア ,  スラリー ,  石英ガラス基板 ,  CMP