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J-GLOBAL ID：201902281824423287   Reference number：19A0296693

Formation of Silicon Protrusions via Surface Melting and Solidification Under Applied Tensile Stress

表面原子の流れ制御による溶融微細加工法の研究

Author (1)： NISHIMURA TAKASHI (鈴鹿工高専)
Material： 村田学術振興財団年報  (Annual Report of the Murata Science Foundation)
Issue： 32 12月  Page： 412-418  Publication year： Dec. 2018 
JST Material Number： L5491A  ISSN： 0919-3383  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *fine patterning ,  *surface melting ,  *surface processing ,  micro structure ,  *surface structure ,  chemical composition ,  crystal orientation ,  *freezing and solidification ,  *projection portion ,  *self-organizing ,  *silicon ,  *wafer ,  tensile stress ,  electromigration ,  *cross section(face) ,  *structure analysis ,  Auger electron spectroscopy ,  scanning electron microscope ,  electron diffraction ,  single crystal ,  crystal structure
Semi thesaurus term： *composition analysis ,  結晶方位分析 ,  FIB-SEM ,  EBSD

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (8)：

• M. Degawa, H. Minoda, Y. Tanishiro, and K. Yagi, Surf. Sci. 461, L528 (2000).
• G. Hongxuan, and D. Fujita, Jpn. J. Appl. Phys. 50, 08LB04 (2011).
• A.K. Swarnakar, O.V. Biest, and J. Vanhellemont, Physica. Status. Solidi. C 11, 150 (2014).
• C.-H. Cho, Curr. Appl. Phys. 9, 538 (2009).
• L.A. Giannuzzi, and F.A. Stevie, Introduction to Focused Ion Beams (Springer Science, New York, 2005) 1st ed., p.230.

Terms in the title (5)： 原子 ,  流れ制御 ,  溶融 ,  微細加工法 ,  研究