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J-GLOBAL ID：201902282140254932   Reference number：19A0391771

Buffer Layer Effect on the Crystallinity of Tin Oxide Film on Sapphire Substrate by Mist Chemical Vapor Deposition

ミスト化学蒸着法によるサファイア基板上の薄い酸化膜の結晶性に対するバッファ層の影響

Author (9)： WIN Thant Zin (Kumamoto Univ.) ,  FURUKAWA Takumi (Kumamoto Univ.) ,  TANAKA Yudai (Kumamoto Univ.) ,  OKITA Koshi (Kumamoto Univ.) ,  MINAMI Kensuke (Kumamoto Univ.) ,  SUE Koji (Kumamoto Univ.) ,  YATABE Zenji (Kumamoto Univ.) ,  NAKAMURA Yusui (Kumamoto Univ.) ,  NAKAMURA Yusui (Phoenics)
Material： 応用物理学会九州支部学術講演会講演予稿集(Web)
Volume： 44  Page： 148 (WEB ONLY)  Publication year： Dec. 08, 2018 
JST Material Number： U0757A  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *chemical vapor deposition ,  substrate(plate) ,  oxide film ,  *crystallinity ,  *buffer layer ,  *tin oxide
Semi thesaurus term： *mist CVD ,  sapphire substrate ,  *tin dioxide

JST classification (2)： Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I) ,  Oxide thin films  (BK14050P)

Terms in the title (6)： ミスト ,  化学蒸着法 ,  サファイア基板 ,  酸化膜 ,  結晶性 ,  バッファ層