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J-GLOBAL ID：201902292150040900   Reference number：19A1368072

Soft X-ray absorption near-edge structures of B/C and B/C/N materials and the analysis of their electronic state using the first-principle calculations

B/CおよびB/C/N材料の軟X線吸収端構造と第一原理計算を用いた電子状態の解析

Author (4)： ISHIKAWA HIROMICHI (大阪電気通信大学) ,  MURAMATSU YASUJI (兵庫県立大学大学院工学研究科) ,  KAWAGUCHI MASAYUKI (大阪電気通信大学) ,  KAWAGUCHI MASAYUKI (大阪電気通信大学エレクトロニクス基礎研究所)
Material： 炭素
Volume： 2019  Issue： 287  Page： 67-73(J-STAGE)  Publication year： 2019 
JST Material Number： G0633A  ISSN： 0371-5345  CODEN： TASOA  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： chemical vapor deposition ,  *boron carbide ,  boron compound ,  carbon compound ,  nitride ,  *laminated material ,  *electronic state ,  first principle ,  *XANES ,  conduction band ,  covalent bond ,  electron affinity ,  intercalation ,  X-alpha method ,  X-ray absorption edge ,  graphitic structure ,  *boron carbon nitride
Semi thesaurus term： *boron carbon nitride ,  electron affinity ,  DV-X alpha method ,  graphite structure

Author keywords (10)： B/C/N materials ,  Electronic state ,  XANES ,  Soft X-ray absorption ,  DV-Xα method ,  B/C/N materials ,  Electronic state ,  XANES ,  Soft X-ray absorption ,  DV-Xα method

JST classification (2)： Electronic structure of molecules  (BH05010Q) ,  Carbon and its compounds  (YB02060D)

Reference (27)：

• 1) A. Y. Liu, R. M. Wentzcovitch and M. L. Cohen, Phys. Rev. B 39 (1989) 1760-1765.
• 2) M. O. Watanabe, S. Itoh, K. Mizushima and T. Sasaki, J. Appl. Phys. 78 (1995) 2880-2882.
• 3) M. Kawaguchi, T. Kawashima and T. Nakajima, Chem. Mater. 8 (1996) 1197-1201.
• 4) M. Kawaguchi, Y. Imai and N. Kadowaki, J. Phys. Chem. Solids 67 (2006) 1084-1090.
• 5) M. Kawaguchi, K. Ohnishi, K. Yamada and Y. Muramatsu, J. Electrochem. Soc. 157 (2010) 13-17.

Terms in the title (5)： 軟X線 ,  吸収端 ,  第一原理計算 ,  電子状態 ,  解析