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J-GLOBAL ID:201903002211424996

光断層計測装置および光断層計測方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2015206746
Publication number (International publication number):2017078645
Patent number:6565100
Application date: Oct. 20, 2015
Publication date: Apr. 27, 2017
Claim (excerpt):
【請求項1】 物体の断層を計測する光断層計測装置であって、 上記物体に対するレーザ光の照射により生じた多重散乱光からなる反射信号光の光複素振幅を計測した結果である光複素振幅情報を取得する光複素振幅情報取得部と、 取得した光複素振幅情報に4f結像光学系の伝達関数を乗算し、その乗算結果にフーリエ変換を施すことによって形成される仮想4f光学系の出力結果を演算する演算処理部と、を備えることを特徴とする光断層計測装置。
IPC (3):
G01N 21/17 ( 200 6.01) ,  G01B 11/24 ( 200 6.01) ,  G02B 21/00 ( 200 6.01)
FI (3):
G01N 21/17 620 ,  G01B 11/24 B ,  G02B 21/00
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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