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J-GLOBAL ID:201903004651369876

積層化細胞シートの製造方法、及びそれにより作製される積層化細胞シート

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (7): 青木 篤 ,  石田 敬 ,  福本 積 ,  古賀 哲次 ,  渡辺 陽一 ,  武居 良太郎 ,  柴田 潤二
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2017127873
Publication number (International publication number):2019010030
Application date: Jun. 29, 2017
Publication date: Jan. 24, 2019
Summary:
【課題】非侵襲的に脱着可能で移植等に利用可能な積層化細胞シートを温度応答性培養表面上で迅速かつ安定して製造する方法及びそれにより得られた積層化細胞シートの提供。【解決手段】本発明は、非侵襲的に脱着可能で移植等に利用可能な積層化細胞シートを迅速に製造する方法であって、(1)温度応答性培養表面の上の第1細胞シートを、前記温度応答性培養表面の下限臨界溶液温度〜45°Cの温度範囲にて、所定時間、遠心力を印加する工程、(2)前記第1細胞シートの上に、さらに、第2細胞シートを載置する工程、(3)前記温度応答性培養表面の上の、前記第1細胞シート及び前記第2細胞シートを、前記下限臨界溶液温度〜45°Cの温度範囲にて、前記所定時間、前記遠心力を印加する工程、を含む、方法を提供する。さらに、前記方法によって得られた積層化細胞シートを提供する。【選択図】図4
Claim (excerpt):
積層化細胞シートを製造する方法であって、前記方法は: (1)温度応答性培養表面の上の第1細胞シートを、前記温度応答性培養表面の下限臨界溶液温度〜45°Cの温度範囲にて、所定時間、遠心力を印加する工程、 (2)前記第1細胞シートの上に、さらに、第2細胞シートを載置する工程、 (3)前記温度応答性培養表面の上の、前記第1細胞シート及び前記第2細胞シートを、前記下限臨界溶液温度〜45°Cの温度範囲にて、前記所定時間、前記遠心力を印加する工程、 を含む、方法。
IPC (3):
C12N 5/077 ,  A61L 27/40 ,  A61L 27/38
FI (4):
C12N5/077 ,  A61L27/40 ,  A61L27/38 ,  A61L27/38 300
F-Term (27):
4B029AA01 ,  4B029BB11 ,  4B029CC02 ,  4B029DG08 ,  4B029GA01 ,  4B029GA08 ,  4B029GB09 ,  4B029HA10 ,  4B065AA91X ,  4B065AC20 ,  4B065BB04 ,  4B065BB19 ,  4B065BB20 ,  4B065BC41 ,  4B065BD08 ,  4B065BD09 ,  4B065BD15 ,  4B065BD50 ,  4B065CA44 ,  4B065CA60 ,  4C081AB11 ,  4C081BA12 ,  4C081CD34 ,  4C081DA02 ,  4C081DC04 ,  4C081EA11 ,  4C081EA12
Article cited by the Patent:
Cited by applicant (3) Cited by examiner (4)
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