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J-GLOBAL ID:201903005759439141
水処理方法および水処理システム
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (1):
特許業務法人深見特許事務所
Gazette classification:再公表公報
Application number (International application number):JP2017043819
Publication number (International publication number):WO2018150690
Application date: Dec. 06, 2017
Publication date: Aug. 23, 2018
Summary:
正浸透膜の一方の面を、水と水以外の成分を含む対象溶液に接触させると共に、正浸透膜の他方の面を、温度上昇により溶解度が低下するドロー溶質を含むドロー溶液に接触させることで、対象溶液中に含まれる水を、正浸透膜を通してドロー溶液に移動させる、正浸透工程と、正浸透工程の後に、ドロー溶液の温度を上昇させることで、ドロー溶液を低濃度ドロー溶液と高濃度ドロー溶液とに分離する、相分離工程と、分離膜を用いて、低濃度ドロー溶液を水とドロー溶質を含む濃縮液とに分離する、膜分離工程と、を含み、膜分離工程の温度は、正浸透工程の温度よりも高いことを特徴とする、水処理方法。
Claim (excerpt):
正浸透膜の一方の面を、水と水以外の成分を含む対象溶液に接触させると共に、
前記正浸透膜の他方の面を、温度上昇により溶解度が低下するドロー溶質を含むドロー溶液に接触させることで、
前記対象溶液中に含まれる水を、前記正浸透膜を通して前記ドロー溶液に移動させる、正浸透工程と、
前記正浸透工程の後に、前記ドロー溶液の温度を上昇させることで、前記ドロー溶液を低濃度ドロー溶液と高濃度ドロー溶液とに分離する、相分離工程と、
分離膜を用いて、前記低濃度ドロー溶液を水と前記ドロー溶質を含む濃縮液とに分離する、膜分離工程と、を含み、
前記膜分離工程の温度は、前記正浸透工程の温度よりも高いことを特徴とする、水処理方法。
IPC (3):
C02F 1/44
, B01D 61/00
, B01D 61/58
FI (3):
C02F1/44 D
, B01D61/00 500
, B01D61/58
F-Term (30):
4D006GA03
, 4D006GA06
, 4D006GA14
, 4D006KA52
, 4D006KA55
, 4D006KA57
, 4D006KE07Q
, 4D006KE16R
, 4D006KE30Q
, 4D006MA01
, 4D006MA03
, 4D006MA21
, 4D006MB11
, 4D006MC18
, 4D006MC35
, 4D006MC36
, 4D006MC37
, 4D006MC45
, 4D006MC54
, 4D006MC63
, 4D006MC71
, 4D006MC72
, 4D006MC73
, 4D006MC75
, 4D006MC76
, 4D006NA59
, 4D006PA01
, 4D006PB03
, 4D006PB04
, 4D006PB08
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