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J-GLOBAL ID:201903005759439141

水処理方法および水処理システム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 特許業務法人深見特許事務所
Gazette classification:再公表公報
Application number (International application number):JP2017043819
Publication number (International publication number):WO2018150690
Application date: Dec. 06, 2017
Publication date: Aug. 23, 2018
Summary:
正浸透膜の一方の面を、水と水以外の成分を含む対象溶液に接触させると共に、正浸透膜の他方の面を、温度上昇により溶解度が低下するドロー溶質を含むドロー溶液に接触させることで、対象溶液中に含まれる水を、正浸透膜を通してドロー溶液に移動させる、正浸透工程と、正浸透工程の後に、ドロー溶液の温度を上昇させることで、ドロー溶液を低濃度ドロー溶液と高濃度ドロー溶液とに分離する、相分離工程と、分離膜を用いて、低濃度ドロー溶液を水とドロー溶質を含む濃縮液とに分離する、膜分離工程と、を含み、膜分離工程の温度は、正浸透工程の温度よりも高いことを特徴とする、水処理方法。
Claim (excerpt):
正浸透膜の一方の面を、水と水以外の成分を含む対象溶液に接触させると共に、 前記正浸透膜の他方の面を、温度上昇により溶解度が低下するドロー溶質を含むドロー溶液に接触させることで、 前記対象溶液中に含まれる水を、前記正浸透膜を通して前記ドロー溶液に移動させる、正浸透工程と、 前記正浸透工程の後に、前記ドロー溶液の温度を上昇させることで、前記ドロー溶液を低濃度ドロー溶液と高濃度ドロー溶液とに分離する、相分離工程と、 分離膜を用いて、前記低濃度ドロー溶液を水と前記ドロー溶質を含む濃縮液とに分離する、膜分離工程と、を含み、 前記膜分離工程の温度は、前記正浸透工程の温度よりも高いことを特徴とする、水処理方法。
IPC (3):
C02F 1/44 ,  B01D 61/00 ,  B01D 61/58
FI (3):
C02F1/44 D ,  B01D61/00 500 ,  B01D61/58
F-Term (30):
4D006GA03 ,  4D006GA06 ,  4D006GA14 ,  4D006KA52 ,  4D006KA55 ,  4D006KA57 ,  4D006KE07Q ,  4D006KE16R ,  4D006KE30Q ,  4D006MA01 ,  4D006MA03 ,  4D006MA21 ,  4D006MB11 ,  4D006MC18 ,  4D006MC35 ,  4D006MC36 ,  4D006MC37 ,  4D006MC45 ,  4D006MC54 ,  4D006MC63 ,  4D006MC71 ,  4D006MC72 ,  4D006MC73 ,  4D006MC75 ,  4D006MC76 ,  4D006NA59 ,  4D006PA01 ,  4D006PB03 ,  4D006PB04 ,  4D006PB08

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