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J-GLOBAL ID：201903010932280378

コアシェル構造型触媒層の製造方法

Inventor： 福長 博 ,  杉本 渉 ,  望月 大 ,  滝本 大裕
Applicant, Patent owner： 国立大学法人信州大学
Agent (1)： 吉村 俊一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2018030220
Publication number (International publication number)：2019141809
Application date： Feb. 22, 2018
Publication date： Aug. 29, 2019
Summary：

【課題】銅のアンダーポテンシャル析出法を利用して白金をシェル化したコアシェル構造型触媒層の新しい量産可能な製造方法を提供する。【解決手段】予めコアとなる金属で作製した金属触媒層に対して銅をアンダーポテンシェル析出させる工程と、アンダーポテンシェル析出した銅を白金で置換してシェル化する工程とを有する方法でコアシェル構造型触媒層を製造する。このとき、金属触媒層が、金属が担持されたシート状カーボンであり、その金属触媒層が、パラジウム若しくはルテニウム等の白金族金属、銅、ニッケル、コバルト又はそれらの合金が担持されたシート状カーボンであることが好ましい。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

予めコアとなる金属で作製した金属触媒層に対して銅をアンダーポテンシャル析出させる工程と、アンダーポテンシャル析出した前記銅を白金で置換してシェル化する工程と、を有することを特徴とするコアシェル構造型触媒層の製造方法。

IPC (2)：

B01J 37/02 ,  B01J 23/44

FI (2)：

B01J37/02 301N ,  B01J23/44 M

F-Term (35)：

4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169AA09 ,  4G169AA11 ,  4G169BA08A ,  4G169BA08B ,  4G169BB02A ,  4G169BB02B ,  4G169BC31C ,  4G169BC72A ,  4G169BC72B ,  4G169BC75A ,  4G169BC75B ,  4G169CC32 ,  4G169DA05 ,  4G169EA07 ,  4G169EA11 ,  4G169EC27 ,  4G169EC28 ,  4G169FA02 ,  4G169FB21 ,  4G169FC04 ,  5H018AA06 ,  5H018BB05 ,  5H018BB06 ,  5H018BB08 ,  5H018BB12 ,  5H018BB13 ,  5H018BB17 ,  5H018DD06 ,  5H018DD10 ,  5H018EE03 ,  5H018EE05 ,  5H018EE18 ,  5H126BB06