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J-GLOBAL ID：201903011611570630

トリオキソプロパン化合物の製造法

Inventor： 小林 修 ,  北之園 拓 ,  谷 真樹
Applicant, Patent owner： クミアイ化学工業株式会社
Agent (4)： 佐伯 拓郎 ,  中村 正展 ,  佐伯 裕子 ,  牛山 直子
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP2017037351
Publication number (International publication number)：WO2018105237
Application date： Oct. 16, 2017
Publication date： Jun. 14, 2018
Summary：

新規なトリオキソプロパン化合物の製造方法の提供。 本発明は、下記一般式(1)で表されるトリオキソプロパン化合物の製造方法であって、 下記一般式(2):で表されるジオキソプロパン化合物を、ルイス酸触媒の存在下、亜塩素酸化合物と反応させることを特徴とするトリオキソプロパン化合物の製造方法を提供する。

Claim (excerpt)：

一般式(1):

IPC (6)：

C07C 67/313 ,  C07C 69/716 ,  C07C 69/738 ,  C07C 49/497 ,  C07C 45/64 ,  C07D 319/06

FI (6)：

C07C67/313 ,  C07C69/716 Z ,  C07C69/738 Z ,  C07C49/497 ,  C07C45/64 ,  C07D319/06

F-Term (25)：

4C022GA13 ,  4H006AA02 ,  4H006AC41 ,  4H006AC44 ,  4H006AC48 ,  4H006BA08 ,  4H006BA12 ,  4H006BA13 ,  4H006BA16 ,  4H006BA19 ,  4H006BA20 ,  4H006BA21 ,  4H006BA24 ,  4H006BA30 ,  4H006BA32 ,  4H006BA36 ,  4H006BA37 ,  4H006BB31 ,  4H006BC34 ,  4H006BE36 ,  4H006BN10 ,  4H006BR30 ,  4H006KA31 ,  4H039CA60 ,  4H039CC30