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J-GLOBAL ID:201903012074015370

HIFU治療装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (9): 田中 伸一郎 ,  弟子丸 健 ,  箱田 篤 ,  浅井 賢治 ,  山崎 一夫 ,  市川 さつき ,  服部 博信 ,  星野 貴光 ,  山本 航介
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2018186530
Publication number (International publication number):2019034164
Application date: Oct. 01, 2018
Publication date: Mar. 07, 2019
Summary:
【課題】副作用が抑制された癌の治療法である高密度焦点式超音波治療法(HIFU)を提供する。【解決手段】HIFU治療装置は、高密度焦点式超音波治療法において用いられるような、収束性を有する超音波を、治療箇所と重なる焦点に向けて照射する超音波照射装置1と、超音波照射装置から照射されている超音波をモニタリングするための超音波モニタリング装置3とを備えている。超音波照射装置による320〜700W/cm2の照射強度での高密度焦点式超音波治療法と抗癌剤療法との併用療法において、アントラサイクリンを含有する抗癌剤を、0.5〜7.5mg/kg体重の用量でアントラサイクリンが癌患者に投与されるように用いる。【選択図】図1
Claim (excerpt):
治療超音波を照射する超音波照射装置と、 前記超音波照射装置から照射された治療超音波をモニタリングする超音波モニタリング装置と、を備えたHIFU治療装置であって、 前記超音波モニタリング装置により検出された治療超音波の量が所定値以上となった場合に、前記超音波照射装置からの治療超音波の照射を停止させる、ことを特徴とするHIFU治療装置。
IPC (1):
A61N 7/02
FI (1):
A61N7/02
F-Term (11):
4C086AA02 ,  4C086EA10 ,  4C086MA38 ,  4C086MA66 ,  4C086NA05 ,  4C086NA06 ,  4C086ZB26 ,  4C086ZC75 ,  4C160JJ33 ,  4C160JJ35 ,  4C160JJ36
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
  • 超音波治療装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平11-017600   Applicant:株式会社東芝
  • 超音波診断治療システム
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平9-028121   Applicant:オリンパス光学工業株式会社
  • 超音波治療装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平11-048330   Applicant:株式会社東芝

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