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J-GLOBAL ID：201903013335524346

フォトリフラクティブ材料組成物及びフォトリフラクティブポリマー素子

Inventor： 堤 直人 ,  木梨 憲司 ,  桝村 健人
Applicant, Patent owner： 国立大学法人京都工芸繊維大学
Agent (1)： 特許業務法人三枝国際特許事務所
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2015160066
Publication number (International publication number)：2016048368
Patent number：6591231
Application date： Aug. 14, 2015
Publication date： Apr. 07, 2016
Claim (excerpt)：

【請求項1】フォトリフラクティブポリマー、増感剤、非線形光学色素、可塑剤及びN型有機半導体を含み、前記フォトリフラクティブポリマーがポリ[ビス(4-フェニル)(2、4、6-トリメチルフェニル)アミン](PTAA)であり、N型有機半導体が下記式のトリス(8-ヒドロキシキノリナト)アルミニウム(Alq3) であり、増感剤が[6、6]-フェニルC61ブタン酸メチルエステル(PCBM)であり、非線形光学色素が下記式の4-ピペリジノベンジリデン-マロノニトリル(PDCST) であり、可塑剤が下記式の(2、4、6-トリメチルフェニル)ジフェニルアミン(TAA) である、フォトリフラクティブ材料組成物。

IPC (3)：

G02F 1/361 ( 200 6.01) ,  G03H 1/02 ( 200 6.01) ,  G03H 1/22 ( 200 6.01)

FI (3)：

G02F 1/361 ,  G03H 1/02 ,  G03H 1/22

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• Grating dynamics in a photorefractive polymer with Alq3 electron traps
• Improvement in photorefractivity of a polymeric composite doped with the elctron-injecting material