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J-GLOBAL ID:201903016501191872
均一触媒反応において水性媒質中で二酸化炭素および水素ガスからメタノールを生産するための方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (3):
福田 伸一
, 水崎 慎
, 高橋 克宗
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2018527741
Patent number:6579561
Application date: Dec. 01, 2015
Claim (excerpt):
【請求項1】 ギ酸への二酸化炭素水素化反応とメタノールへのギ酸不均化反応とを含む均一触媒全反応において水素ガスおよび二酸化炭素ガスからメタノールを生産するための方法であって、前記反応が、
水性媒質中、
20〜100°Cの温度範囲において、
100バールまでの全水素ガスおよび二酸化炭素ガス圧で、
一般式(I)の錯体
を含む触媒の存在下で行われ、
式中、
M1は、Ir、Ru、Rhから選択される金属であり、
R1はペンタメチルシクロペンタジエニド基またはヘキサメチルベンゼン基であり、
R2はH2O基またはCl基であり、
mは金属M1の酸化状態に応じて1〜4から選択され、
xは1または2であり、
Bは、F-、Cl-、Br-、I-、OH-、H-、またはS2-、CO32-、SO42-、またはPO43-から選択され、
L1は、少なくとも1つのヘテロ原子Nを含む共役系または縮合芳香環の系から選択される配位子であり、前記芳香環はさらに、-H、-OH基、-COOH基、-CF3基、-NH2基、C1〜C12アルキル、C1〜C12アルコキシ基、C4〜C12アリール、C4〜C12アリールオキシ基、またはIr、Ru、Rhから選択される金属であって、ペンタメチルシクロペンタジエニル基、無置換ベンゼン基もしくは置換ベンゼン基から選択される1つの置換基R3とH2O基、Cl基、ハライド基およびヒドリド基から選択される1つの置換基R4とでさらに置換されている前記金属、から独立して選択される部分で置換されていてもよい、前記方法。
IPC (4):
C07C 29/157 ( 200 6.01)
, C07C 31/04 ( 200 6.01)
, B01J 31/22 ( 200 6.01)
, C07B 61/00 ( 200 6.01)
FI (4):
C07C 29/157 ZAB
, C07C 31/04
, B01J 31/22 Z
, C07B 61/00 300
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