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J-GLOBAL ID:201903017646213811

カーボンナノチューブ複合膜で二次元ナノ材料を転写する方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): TRY国際特許業務法人
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2019010254
Publication number (International publication number):2019127433
Application date: Jan. 24, 2019
Publication date: Aug. 01, 2019
Summary:
【課題】二次元ナノ材料を、汚染や損傷されることなく転写する方法の提供。【解決手段】S1:第一基板101を提供して、第一基板101の表面に二次元ナノ材料層102を形成する。S2:カーボンナノチューブ複合膜103を提供して、カーボンナノチューブ複合膜103で、第一基板101の二次元ナノ材料層102が形成する表面を覆う。S3:第一基板101を除去し、二次元ナノ材料層102及びカーボンナノチューブ複合膜103が、二次元ナノ材料層/カーボンナノチューブ複合膜の複合構造体を形成する。S4:ターゲット基板104を提供し、二次元ナノ材料層/カーボンナノチューブ複合膜の複合構造体をターゲット基板104の表面に転写して、ターゲット基板104を二次元ナノ材料層102と接触させる。S5:カーボンナノチューブ複合膜103を除去し、二次元ナノ材料層102がターゲット基板104の表面に転写される。【選択図】図1
Claim (excerpt):
第一基板を提供するステップであり、前記第一基板の表面に二次元ナノ材料層が形成されるステップと、 カーボンナノチューブ複合膜を提供して、該カーボンナノチューブ複合膜で、前記第一基板の二次元ナノ材料層が形成する表面を覆うステップであり、前記カーボンナノチューブ複合膜は、カーボンナノチューブフィルム構造体及び該カーボンナノチューブフィルム構造体の一つの表面に形成されたナノ材料を含み、前記カーボンナノチューブフィルム構造体のもう一つの表面は、前記二次元ナノ材料層と接触するステップと、 前記第一基板を除去し、前記二次元ナノ材料層及び前記カーボンナノチューブ複合膜が、二次元ナノ材料層/カーボンナノチューブ複合膜の複合構造体を形成するステップと、 ターゲット基板を提供し、前記二次元ナノ材料層/カーボンナノチューブ複合膜の複合構造体を前記ターゲット基板の表面に転写して、前記ターゲット基板を前記二次元ナノ材料層と接触させるステップと、 前記カーボンナノチューブ複合膜を除去し、前記二次元ナノ材料層が前記ターゲット基板の表面に転写されるステップと、 を含むことを特徴とするカーボンナノチューブ複合膜で二次元ナノ材料を転写する方法。
IPC (4):
C01B 32/194 ,  C01B 32/168 ,  C01G 39/06 ,  B82Y 40/00
FI (4):
C01B32/194 ,  C01B32/168 ,  C01G39/06 ,  B82Y40/00
F-Term (12):
4G048AA07 ,  4G048AB03 ,  4G048AD02 ,  4G146AA01 ,  4G146AA07 ,  4G146AA11 ,  4G146AB07 ,  4G146AD05 ,  4G146AD40 ,  4G146BC09 ,  4G146CB01 ,  4G146CB17
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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