Pat
J-GLOBAL ID:201903017740436581

パラメータ最適化装置、方法、およびプログラム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 山川 茂樹 ,  小池 勇三 ,  山川 政樹
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2018112515
Publication number (International publication number):2019215697
Application date: Jun. 13, 2018
Publication date: Dec. 19, 2019
Summary:
【課題】高位合成におけるループ展開数と回路並列数の最適な組み合わせを決定する。【解決手段】回路合成情報生成部11が、パラメータの候補としてループ展開数Mと回路並列数Nの組み合わせを複数設定して、これら組み合わせごとに、高位合成処理により得られる合成回路を示す回路合成情報23を生成し、最適パラメータ決定部13が、生成された回路合成情報23ごとに、当該回路合成情報23が示す合成回路に関する推定処理性能Pを算出し、最大の推定処理性能Pmaxが得られた回路合成情報23に基づいて、ループ展開数Mと回路並列数Nの最適な組み合わせを決定する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
複数の処理回路に対して対象処理をループ展開して実行する処理システムを、高位合成処理により回路設計する際、前記高位合成処理で用いる設計パラメータであるループ展開数と回路並列数の最適な組み合わせを決定するパラメータ最適化装置であって、 前記設計パラメータの候補となる、前記ループ展開数と前記回路並列数の組み合わせを複数設定し、これら組み合わせごとに、前記高位合成処理により得られる合成回路を示す回路合成情報を生成する回路合成情報生成部と、 前記回路合成情報ごとに、当該回路合成情報が示す合成回路に関する推定処理性能を算出し、最大の推定処理性能が得られた回路合成情報に基づいて、前記ループ展開数と前記回路並列数の最適な組み合わせを決定する最適パラメータ決定部と を備えることを特徴とするパラメータ最適化装置。
IPC (1):
G06F 17/50
FI (1):
G06F17/50 654M
F-Term (2):
5B046AA08 ,  5B046BA02
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)

Return to Previous Page