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J-GLOBAL ID：201903019160313949

光学測定装置、光学測定方法、及び応力検査方法

Inventor： 渡邉 紳一 ,  岡野 真人
Applicant, Patent owner： 学校法人慶應義塾
Agent (2)： 伊東 忠重 ,  伊東 忠彦
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP2017030814
Publication number (International publication number)：WO2018043438
Application date： Aug. 28, 2017
Publication date： Mar. 08, 2018
Summary：

サンプル内部の状態、特に添加物を含む高分子材料の内部状態を非破壊・非接触で簡易に測定する。光学測定装置は、テラヘルツ光源と、前記テラヘルツ光源から出射されサンプルを透過または反射されたテラヘルツ光を検出する検出器と、サンプル位置と前記検出器の間に配置されて前記サンプルからの前記テラヘルツ光の偏光を変化させる光学素子と、前記光学素子による前記偏光の変化を制御する偏光制御手段と、前記検出器で検出されたテラヘルツ光から偏光成分を検出し、検出した前記偏光成分に基づいて前記サンプルの固有軸の向き(θ)と屈折率異方性(Δn)を算出する解析部と、を有する。

Claim (excerpt)：

テラヘルツ光源と、 前記テラヘルツ光源から出射されサンプルを透過または反射されたテラヘルツ光を検出する検出器と、 サンプル位置と前記検出器の間に配置されて前記サンプルからの前記テラヘルツ光の偏光を変化させる光学素子と、 前記光学素子による前記偏光の変化を制御する偏光制御手段と、 前記検出器で検出されたテラヘルツ光から偏光成分を検出し、検出した前記偏光成分に基づいて前記サンプルの固有軸の向きと屈折率異方性を決定する解析部と、 を有することを特徴とする光学測定装置。

IPC (2)：

G01N 21/23 ,  G01N 21/358

FI (2)：

G01N21/23 ,  G01N21/3581

F-Term (13)：

2G059AA02 ,  2G059BB08 ,  2G059BB15 ,  2G059EE04 ,  2G059EE05 ,  2G059GG04 ,  2G059GG08 ,  2G059HH01 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ19 ,  2G059JJ20 ,  2G059JJ22 ,  2G059MM01