Tomoko Ito

イトウトモコ | Tomoko Ito

Affiliation and department：
Homepage URL (1)： http://www.camt.eng.osaka-u.ac.jp/hamaguchi/

Research field (1)： Applied plasma science

Research keywords (3)：プラズマ固体表面反応 , プラズマ微細加工プロセス , 原子層エッチング

Research theme for competitive and other funds (8)：

2024 - 2027 超音速分子線照射による遷移金属材料に対する原子層エッチング表面反応機構の解明
2021 - 2024 ビーム実験による次世代半導体Ga2O3のプラズマエッチング表面反応機構の解明
2022 - 2023 in-situ表面反応解析装置を用いた磁性材料に対するサーマル原子層エッチング表面反応機構の解明
2021 - 2022 超音速分子ビームを用いた遷移金属におけるアトミックレイヤーエッチング表面反応機構の解明
2018 - 2021 Surface reaction mechanisms for plasma enhanced atomic layer etching process by organic compounds

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Papers (26)：

Anjar Anggraini Harumningtyas, Tomoko Ito, Hidekazu Kita, Joe Kodama, Takashi Kaito, Satoshi Hamaguchi. Amine plasma polymers deposited on porous hydroxyapatite artificial bone with bipolar pulsed discharges. Journal of Vacuum Science & Technology A. 2024. 42. 5
Anjar Anggraini Harumningtyas, Tomoko Ito, Michiro Isobe, Lenka Zajíčková, Satoshi Hamaguchi. Molecular dynamics simulation of amine formation in plasma-enhanced chemical vapor deposition with hydrocarbon and amino radicals. Journal of Vacuum Science & Technology A. 2023. 41. 6
Anjar Anggraini Harumningtyas, Tomoko Ito, Masato Ikuta, Takashi Kaito, Satoshi Hamaguchi. Polyetheretherketone (PEEK) Implant Functionalization with Magnetron-Sputtered SrTiO3 for Regenerative Medicine. Plasma Medicine. 2023. 13. 3. 53-67
Karsten Arts, Satoshi Hamaguchi, Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Harm C M Knoops, Adriaan J M Mackus, Wilhelmus M M (Erwin) Kessels. Foundations of atomic-level plasma processing in nanoelectronics. Plasma Sources Science and Technology. 2022. 31. 10. 103002-103002
Tomoko Ito, Hidekazu Kita, Kazuhiro Karahashi, Satoshi Hamaguchi. Low-energy ion irradiation effects on chlorine desorption in plasma-enhanced atomic layer deposition (PEALD) for silicon nitride. Japanese Journal of Applied Physics. 2022. 61. SI. SI1011-SI1011

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MISC (5)：

Patents (2)：

Lectures and oral presentations (70)：

Surface analyses of β-diketone-adsorbed transition metal materials in atomic layer etching (ALE) processes
(14th EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing (JSPP-14) 2023)
Surface reactions of Si and SiO 2 exposed t o energetic tungsten fluoride ion beams
(14th EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing (JSPP-14) 2023)
Thermal and Plasma-enhanced Atomic Layer Deposition of Strontium Oxide on Artificial Spinal Cage
(14th EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing (JSPP-14) 2023)
フッ化タングステンイオンによるSiおよびSiO2エッチング反応の評価
(第70回応用物理学会春季学術講演会 2023)
SiO2 etching reactions by high-energy WFx+ (X= 1-4) ion injection
(DPS2022 43rd International Symposium on Dry Process 2022)

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Education (3)：

Work history (7)：

2025/01 - 現在 Osaka University
2024/10 - 現在大坂大学工学研究科マテリアル生産科学専攻生産科学コース特任助教
2023/04 - 2024/03 大坂大学大学院工学研究科マテリアル生産科学専攻生産科学コース助教
2023/04 - 2024/03 マテリアル生産科学専攻生産科学コース助教
2020/04 - 2023/03 Osaka University Graduate School of Engineering Center for Atomic and Molecular Technologies Assistant Professor

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Committee career (2)：

Awards (3)：

2014/05 - 日本質量分析学会第62 回質量分析総合討論会ベストプレゼンテーション賞優秀賞
2012/09 - 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会第11回プラズマエレクトロニクス賞
2010/11 - 第32回ドライプロセス国際シンポジウム組織委員会 Young Researcher Award (The 32nd International Symposium on Dry Process)

Association Membership(s) (3)：

American Vacuum Society , プラズマエレクトロニクス分科会(応用物理学会 ) , 応用物理学会

※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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