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J-GLOBAL ID：202002215374658464   Reference number：20A0078727

Pattern dependent distortion and temperature variation in EUV mask

EUVマスクにおけるパターン依存歪と温度変化【JST・京大機械翻訳】

Author (5)： Ban Chung-Hyun (Hanyang Univ. (Korea, Republic of)) ,  Park Eun-Sang (Hanyang Univ. (Korea, Republic of)) ,  Ha Ui-Jeong (Hanyang Univ. (Korea, Republic of)) ,  Lim Chae-Yun (Hanyang Univ. (Korea, Republic of)) ,  Oh Hye-Keun (Hanyang Univ. (Korea, Republic of))
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 11147  Page： 111471R-11  Publication year： 2019 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Abstract/Point： Extreme ultraviolet lithograph...

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Thesaurus term： Hydrogen ,  *temperature fluctuation ,  reflectivity ,  absorber ,  composite material ,  extreme ultraviolet ,  multilayer ,  heat storage ,  thermal deformation ,  energy absorption ,  rate of absorption ,  lithography ,  reflected light
Semi thesaurus term： 極端紫外線リソグラフィー ,  *EUVマスク , 【Automatic Indexing@JST】

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (2)： EUVマスク ,  温度変化