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J-GLOBAL ID：202002231672437647   Reference number：20A0888563

Study of Etching and Deposition by Electrically-induced Bubble for Electric Wiring

電気配線用の電気誘導気泡によるエッチングと堆積の研究

Author (3)： BASAKI Natsumi (Kyushu Univ., JPN) ,  ICHIKAWA Keita (Kyushu Univ., JPN) ,  YAMANISHI Yoko (Kyushu Univ., JPN)
Material： バイオメカニクス研究センター&エレクトロニクス実装学会九州支部合同研究会  (Proceedings. Joint Conference of the Research Center for Advanced Biomechanics & Japan Institute of Electronics Packaging, Kyushu Branch)
Volume： 7th (CD-ROM)  Page： ROMBUNNO.P1  Publication year： 2019 
JST Material Number： F2186A  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *wiring ,  *etching ,  drilling(cutting) ,  polyvinyl chloride ,  *nickel ,  nano particle ,  sedimentation(accumulate) ,  precipitation(phase separation) ,  plasma
Semi thesaurus term： voltage application ,  *電界誘起気泡

JST classification (3)： Film flows,liquid drops,bubbles,cavitation  (BC02070U) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Other surface treatment  (WC08070F)

Terms in the title (5)： 誘導 ,  気泡 ,  エッチング ,  堆積 ,  研究