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J-GLOBAL ID：202002251957571226   Reference number：20A0216839

Fabrication of CMOS Invertors in Si Thin-Film-Transistors by Laser Doping Using a Chemical Solution Coating

化学溶液コーティングを用いたレーザドーピングによるSi薄膜トランジスタにおけるCMOSインバータの作製【JST・京大機械翻訳】

Author (7)： Imokawa Kaname (Graduate School of Information Science and Electrical Engineering, Kyushu University, Fukuoka, Japan) ,  Kurashige Takayuki (Graduate School of Information Science and Electrical Engineering, Kyushu University, Fukuoka, Japan) ,  Suwa Akira (Graduate School of Information Science and Electrical Engineering, Kyushu University, Fukuoka, Japan) ,  Nakamura Daisuke (Graduate School of Information Science and Electrical Engineering, Kyushu University, Fukuoka, Japan) ,  Sadoh Taizoh (Graduate School of Information Science and Electrical Engineering, Kyushu University, Fukuoka, Japan) ,  Goto Tetsuya (New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University, Sendai, Japan) ,  Ikenoue Hiroshi (Graduate School of Information Science and Electrical Engineering, Kyushu University, Fukuoka, Japan)
Material： IEEE Journal of the Electron Devices Society  (IEEE J Electron Divices Soc)
Volume： 8  Page： 27-32  Publication year： 2020 
JST Material Number： W2429A  ISSN： 2168-6734  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Abstract/Point： We demonstrated that p- and n-...

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Thesaurus term： *doping ,  phosphorus ,  Hall effect ,  *covering ,  active layer ,  *thin film transistor ,  *laser ,  aluminum ,  *silicon
Semi thesaurus term： シリコン膜 ,  *CMOSインバータ ,  *レーザドーピング , 【Automatic Indexing@JST】

JST classification (4)： Semiconductor integrated circuit  (NC03162T) ,  Applications of lasers  (BD04100V) ,  Radio communication in general  (ND08010L) ,  Pattern recognition  (JE07000S)

Terms in the title (8)： 化学 ,  溶液 ,  コーティング ,  レーザドーピング ,  Si薄膜 ,  トランジスタ ,  CMOSインバータ ,  作製