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J-GLOBAL ID：202002252769723999   Reference number：20A0247774

High-Temperature Stability of SiO₂ Oxide Film on Surface of SiC

SiC表面におけるSiO₂酸化被膜の高温安定性

Author (6)： YAMAGUCHI SOICHIRO (福井大学) ,  YUSUFU Aikebaier (福井大学) ,  SHIRAHAMA TAKUMA (福井大学) ,  MURAKAMI YUKIHIRO (福井大学) ,  ONITSUKA TAKASHI (福井大学) ,  UNO MASAYOSHI (福井大学)
Material： 日本原子力学会和文論文誌  (Transactions of the Atomic Energy Society of Japan)
Volume： 18  Issue： 4  Page： 219-225(J-STAGE)  Publication year： 2019 
JST Material Number： L4596A  ISSN： 1347-2879  CODEN： JNSTAX  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *silicon carbide ,  *silicon dioxide ,  oxide film ,  light water reactor ,  oxide ,  volatile matter ,  protective film ,  *reactor accident ,  countermeasure ,  membrane and film ,  crack ,  bubble ,  impurity ,  suboxide ,  accident countermeasure ,  porous film ,  *nuclear fuel cladding tube ,  conversion coating film
Semi thesaurus term： fuel can ,  volatile compound ,  *fuel clad

Author keywords (18)： oxidation ,  oxide film ,  high temperature ,  microstructure ,  thermodynamics ,  cracking ,  accident tolerant fuel ,  silicon carbide ,  porous structure ,  oxidation ,  oxide film ,  high temperature ,  microstructure ,  thermodynamics ,  cracking ,  accident tolerant fuel ,  silicon carbide ,  porous structure

JST classification (2)： Safety of watercooled reactors  (MD06020H) ,  Reactor components and reactor materials in general  (MD04010I)

Reference (39)：

• 1) NEA/OECD, NEA No. 7248 (2016).
• 2) K. A. Terrani, S. J. Zinkle, L. L. Snead, J. Nucl. Mater., 448, 420-435 (2014).
• 3) T. Cheng, J. R. Keiser, M. P. Brady, K. A. Terrani et. al., J. Nucl. Mater., 427, 396-400 (2012).
• 4) B. A. Pint, K. A. Unocic, K. A. Terrani, Mater. HighTemp., 32, 28-35 (2015).
• 5) K. Barrett, S. Bragg-Sitton, D. Galicki, Idaho, 83415 INL/EXT-12-27090 (2012).

Terms in the title (4)： SiC ,  SiO2 ,  酸化被膜 ,  安定性