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J-GLOBAL ID：202002255594560323   Reference number：20A0566858

高圧合成NbP₂およびNiN₂の電子構造

Author (11)： KAWADA TAKUYA (名大 院) ,  KATO HIROTAKA (名大 院) ,  KATO MASAHIKO (名大 院) ,  SODA KAZUO (名大 院) ,  SODA KAZUO (名大 SR) ,  SODA KAZUO (あいち SR) ,  NISHIDOZONO KEITA (名大 院) ,  TERABE TOSHIKI (名大 院) ,  NIWA KEN (名大 院) ,  HASEGAWA MASASHI (名大 院) ,  IKEMOTO YUKA (JASRI)
Material： 日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web)  (日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集(Web))
Volume： 32nd  Page： ROMBUNNO.10P085 (WEB ONLY)  Publication year： Jan. 09, 2019 
JST Material Number： U1891A  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *electronic structure ,  infrared spectroscopy ,  *niobium compound ,  nitride ,  phosphide ,  density functional method ,  APW method ,  chemical synthesis ,  synchrotron radiation facility ,  *state density ,  ab initio calculation ,  *high pressure synthesis ,  SPring-8 ,  IR microspectroscopy ,  FPLAPW method
Semi thesaurus term： infrared microspectroscopy ,  *二窒化ニオブ ,  *二リン化ニオブ ,  generalized gradient approximation ,  FLAPW method

JST classification (1)： Electronic structure of crystalline metals  (BM02050C)

Terms in the title (2)： 高圧合成 ,  電子構造