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J-GLOBAL ID：202002267020256565   Reference number：20A0007777

Measurement of the residual stress in chromium nitride coatings deposited on an aluminum alloy substrate using arc ion plating method

アークイオンめっき法を用いたアルミニウム合金基板上に堆積した窒化クロム被覆における残留応力の測定【JST・京大機械翻訳】

Author (4)： Kusaka Kazuya (Institute of Technology and Science, Tokushima University, 2-1, Minamijosanjima, Tokushima, Tokushima 7708506, Japan) ,  Shirasaka Kenta (Graduate School of Advanced Technology and Science, Tokushima University, 2-1, Minamijosanjima, Tokushima, Tokushima 7708506, Japan) ,  Yonekura Daisuke (Institute of Technology and Science, Tokushima University, 2-1, Minamijosanjima, Tokushima, Tokushima 7708506, Japan) ,  Tanaka Yuta (Materials Department, Research Laboratory, IHI Corporation, 1, Shin-nakahara-cho, Isogo-ku, Yokohama, Kanagawa 235-8501, Japan)
Material： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology & Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, & Phenomena)
Volume： 37  Issue： 6  Page： 062916-062916-5  Publication year： 2019 
JST Material Number： E0974A  ISSN： 2166-2746  CODEN： JVTBD9  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Abstract/Point： Chromium nitride (CrN) coating...

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Thesaurus term： *residual stress ,  crystal ,  interface (surface) ,  X-Ray Diffraction ,  *aluminum base alloy ,  *covering ,  stress gradient ,  *chromium nitride ,  residual compressive stress ,  *vacuum arc deposition
Semi thesaurus term： 圧縮残留応力 ,  バイアス電圧 ,  *アークイオンプレーティング , 【Automatic Indexing@JST】

JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Metallic thin films  (BK14030T)

Terms in the title (6)： アーク ,  イオンめっき法 ,  アルミニウム合金 ,  堆積 ,  窒化クロム ,  残留応力