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J-GLOBAL ID：202003003546862421

有害物処理方法およびオゾン発生装置

Inventor： 田村 耕三 ,  石渡 俊二 ,  井上 知美 ,  小竹 武
Applicant, Patent owner： 株式会社タムラテコ ,  学校法人近畿大学
Agent (1)： 安田 幹雄
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP2018037679
Publication number (International publication number)：WO2019073996
Application date： Oct. 10, 2018
Publication date： Apr. 18, 2019
Summary：

オゾンガス単独では分解または無害化等が容易ではない有害物または微生物を分解しまたは殺菌することができる処理方法を提供する。 有害物処理方法は、界面活性剤水溶液を用いて加湿された環境において有害物または微生物等にオゾンガスを作用させるというものである。有害物には抗がん剤も含まれる。使用される界面活性剤界面活性剤としては非イオン界面活性剤、陰イオン界面活性剤、陽イオン界面活性剤または両性界面活性剤を使用することができる。

Claim (excerpt)：

界面活性剤水溶液を用いて加湿された環境においてオゾンガスを作用させて有害物を分解または殺菌する ことを特徴とする有害物処理方法。

IPC (5)：

A62D 3/38 ,  A61L 2/20 ,  A01P 3/00 ,  A01N 59/00 ,  A01N 25/30

FI (5)：

A62D3/38 ,  A61L2/20 100 ,  A01P3/00 ,  A01N59/00 A ,  A01N25/30

F-Term (10)：

4C058AA01 ,  4C058BB07 ,  4C058JJ14 ,  4C058JJ27 ,  4C058JJ30 ,  4H011AA01 ,  4H011BA05 ,  4H011BB18 ,  4H011BC03 ,  4H011DA13