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J-GLOBAL ID：202003004977752344

プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法

Inventor： 石島 達夫 ,  森本 健太朗 ,  上杉 喜彦 ,  田中 康規 ,  木村 拓磨
Applicant, Patent owner： 国立大学法人金沢大学
Agent (1)： 新居 広守
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2019031271
Publication number (International publication number)：2020136199
Application date： Feb. 25, 2019
Publication date： Aug. 31, 2020
Summary：

【課題】プラズマの生成効率に優れた回転電極型のプラズマ処理装置を提供すること。【解決手段】プラズマ処理装置1は、誘電体で構成された反応容器10と、反応容器10に設けられた固定電極21、22と、反応容器10の内面との間に空隙を保って回転可能なN枚(Nは自然数)の羽根を有する回転電極30と、回転電極30を回転させる回転器としての直流モータ41および直流電源42と、固定電極21、22と回転電極30との間に交流電界を形成する交流電源50と、を備え、前記交流電界の半周期を前記回転電極の回転周期のN分の1で除した値が、1以上かつ2.5以下である。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

誘電体で構成された反応容器と、 前記反応容器に設けられた固定電極と、 前記反応容器の内面との間に空隙を保って回転可能なN枚(Nは自然数)の羽根を有する回転電極と、 前記回転電極を回転させる回転器と、 前記固定電極と前記回転電極との間に交流電界を形成する交流電源と、を備え、 前記交流電界の半周期を前記回転電極の回転周期のN分の1で除した値である掃引率が1以上かつ2.5以下である、 プラズマ処理装置。

IPC (2)：

H05H 1/24 ,  B01J 19/08

FI (2)：

H05H1/24 ,  B01J19/08 E

F-Term (27)：

2G084AA01 ,  2G084AA18 ,  2G084BB11 ,  2G084CC03 ,  2G084CC08 ,  2G084CC19 ,  2G084CC34 ,  2G084DD01 ,  2G084DD14 ,  2G084DD17 ,  2G084DD22 ,  2G084DD25 ,  2G084DD32 ,  2G084DD67 ,  2G084FF01 ,  2G084FF39 ,  4G075AA03 ,  4G075AA27 ,  4G075AA30 ,  4G075BA05 ,  4G075CA15 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EB41 ,  4G075EC21 ,  4G075ED02