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J-GLOBAL ID：202003009265867783

細胞デバイス、細胞デバイスの製造方法及び細胞デバイスの移植方法

Inventor： 丸山 優史 ,  松森 正樹 ,  酒井 康行 ,  篠原 満利恵
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  国立大学法人 東京大学
Agent (1)： 特許業務法人磯野国際特許商標事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2018219180
Publication number (International publication number)：2020081316
Application date： Nov. 22, 2018
Publication date： Jun. 04, 2020
Summary：

【課題】細胞凝集体を高い数密度となるように保持することが可能であり、細胞凝集体による高い治療効果と低い侵襲性とを両立させることができる細胞デバイス、細胞デバイスの製造方法及び細胞デバイスの移植方法を提供する。【解決手段】細胞移植に用いられる細胞デバイス1であって、細胞凝集体10を担持するための担体20と、担体20を覆う筐体30とを備え、担体20は、多孔質である基材21と、基材21の表面に設けられた細胞接着性分子によって構成される細胞接着層22とを有する。細胞デバイスの製造方法は、担体20を筐体30に収容する工程と、担体20の細孔に細胞凝集体10を強制的な力をかけて導入する工程とを含む。細胞デバイスの移植方法は、細胞凝集体10が導入された細胞デバイス1を、ヒトを除く生体の体内に埋植する工程を含む。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

細胞移植に用いられる細胞デバイスであって、 細胞凝集体を担持するための担体と、 前記担体を覆う筐体と、を備え、 前記担体は、多孔質である基材と、前記基材の表面に設けられた細胞接着性分子によって構成される細胞接着層と、を有する細胞デバイス。

IPC (15)：

A61L 27/38 ,  A61L 27/40 ,  A61L 27/56 ,  A61L 27/20 ,  A61L 27/18 ,  A61L 27/50 ,  A61L 27/24 ,  A61L 27/22 ,  A61K 35/39 ,  A61P 43/00 ,  A61P 5/50 ,  A61P 3/10 ,  C12M 1/00 ,  C12M 1/26 ,  C12M 3/00

FI (15)：

A61L27/38 ,  A61L27/40 ,  A61L27/56 ,  A61L27/20 ,  A61L27/18 ,  A61L27/50 ,  A61L27/24 ,  A61L27/22 ,  A61K35/39 ,  A61P43/00 107 ,  A61P5/50 ,  A61P3/10 ,  C12M1/00 A ,  C12M1/26 ,  C12M3/00 A

F-Term (38)：

4B029AA01 ,  4B029AA09 ,  4B029AA21 ,  4B029AA27 ,  4B029BB11 ,  4B029CC02 ,  4B029DG08 ,  4B029DG10 ,  4B029GA08 ,  4B029GB05 ,  4B029GB09 ,  4B029HA02 ,  4B029HA10 ,  4C081AB12 ,  4C081AB35 ,  4C081BA12 ,  4C081BA13 ,  4C081BB06 ,  4C081CA211 ,  4C081CA271 ,  4C081CD091 ,  4C081CD112 ,  4C081CD122 ,  4C081CD172 ,  4C081CD34 ,  4C081DA05 ,  4C081DB03 ,  4C081DC03 ,  4C087AA01 ,  4C087AA02 ,  4C087BB51 ,  4C087BB64 ,  4C087CA04 ,  4C087MA05 ,  4C087MA67 ,  4C087NA10 ,  4C087NA12 ,  4C087ZC35