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J-GLOBAL ID：202003011603917818

ペルフルオロポリフェニレンゲル及び薄膜の製造方法

Inventor： 田嶋 稔樹 ,  伊藤 亘
Applicant, Patent owner： 学校法人 芝浦工業大学
Agent (1)： 特許業務法人特許事務所サイクス
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2020074543
Publication number (International publication number)：2020183517
Application date： Apr. 20, 2020
Publication date： Nov. 12, 2020
Summary：

【課題】モノマー分子から一段階の反応で高分子量のペルフルオロポリアリーレンを合成することができ、さらにペルフルオロポリアリーレンの合成と同時に成膜することができる、ペルフルオロポリフェニレンの製造方法を提供すること。【解決手段】ペルフルオロアレーン(ここでアレーンはベンゼン又はビフェニルを示す)を電解還元重合する前駆体製造工程と、前駆体に脱ドープを行い、ペルフルオロポリアリーレンゲルを得る脱ドープ工程と、を含む、ペルフルオロポリアリーレンゲルの製造方法。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

ペルフルオロアレーン(ここでアレーンはベンゼン又はビフェニルを示す)を電解還元重合する前駆体製造工程と、 前駆体に脱ドープを行い、ペルフルオロポリアリーレンゲルを得る脱ドープ工程と、 を含む、ペルフルオロポリアリーレンゲルの製造方法。

IPC (1)：

C08G 61/10

FI (1)：

C08G61/10

F-Term (7)：

4J032CA04 ,  4J032CA12 ,  4J032CB01 ,  4J032CE09 ,  4J032CF02 ,  4J032CG06 ,  4J032CG08