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J-GLOBAL ID:202003013444091701

円偏光照射器、分析装置及び顕微鏡

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大森 桂子
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2016236414
Publication number (International publication number):2017120255
Patent number:6784396
Application date: Dec. 06, 2016
Publication date: Jul. 06, 2017
Claim (excerpt):
【請求項1】 光源と、 前記光源から出射された直線偏光又は前記光源から出射された光から取り出された直線偏光を、x軸方向成分とy軸方向成分とに分ける偏光分離部と、 前記偏光分離部で分離された直線偏光のx軸方向成分とy軸方向成分とを交互に遮断する光遮断部と、 前記光遮断部を通過した直線偏光のx軸方向成分とy軸方向成分とを同軸に合成する偏光合成部と、 前記偏光合成部から出射された直線偏光を円偏光に変換して直線偏光成分を含まない円偏光を生成する偏光変換部と を有する円偏光照射器。
IPC (2):
G01N 21/19 ( 200 6.01) ,  G02B 21/06 ( 200 6.01)
FI (2):
G01N 21/19 ,  G02B 21/06
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
  • 特開昭60-088353
  • 円偏光X線を用いた磁区観察法及びその装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平3-207803   Applicant:株式会社日立製作所
  • シート状物体の配向計
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-180403   Applicant:横河電機株式会社
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Cited by examiner (5)
  • 特開昭60-088353
  • 円偏光X線を用いた磁区観察法及びその装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平3-207803   Applicant:株式会社日立製作所
  • シート状物体の配向計
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-180403   Applicant:横河電機株式会社
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Article cited by the Patent:
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