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J-GLOBAL ID：202003014153059092

水分濃度測定方法およびその装置

Inventor： 西田 耕介 ,  川崎 昌博 ,  梅川 豊文 ,  本田 真一
Applicant, Patent owner： 国立大学法人京都工芸繊維大学 ,  川崎 昌博 ,  株式会社プラムテック ,  神栄テクノロジー株式会社
Agent (1)： 福井 豊明
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2016255697
Publication number (International publication number)：2018105833
Patent number：6742900
Application date： Dec. 28, 2016
Publication date： Jul. 05, 2018
Claim (excerpt)：

【請求項1】 波長変調分光法において得られた吸収波形から、2p次微分波のピーク値(2pf)と2q次微分波のピーク値(2qf)(p、qは正の整数、p IPC (3)：

G01N 21/39 ( 200 6.01) ,  G01N 21/3554 ( 201 4.01) ,  G01J 3/433 ( 200 6.01)

FI (3)：

G01N 21/39 ,  G01N 21/355 ,  G01J 3/433

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

• ガス計測装置およびガス計測装置における状態量の測定方法。
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2011-286895   Applicant：株式会社堀場製作所
• 内部の水分レベルを制御するための半導体処理装置および方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-306348   Applicant：レール・リキード-ソシエテ・アノニム・ア・ディレクトワール・エ・コンセイユ・ドゥ・スールベイランス・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード
• 吸光度検出器,クロマトグラフ装置,吸光度検出方法、及びクロマトグラフ分析方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-255811   Applicant：株式会社日立製作所
• 特開昭62-228142
  
• 特表平7-506429