絶対位置測定装置および絶対位置測定方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：須田篤 , 楠修二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2019057305
Publication number (International publication number)：2020159771
Application date： Mar. 25, 2019
Publication date： Oct. 01, 2020
Summary：

【課題】回折光群のスペクトルを分析することで、1軸ないし2軸方向についての高分解能かつ高精度な絶対位置測定を実現できる光学式の絶対位置測定装置、およびそれを用いた絶対位置測定方法を提供する。【解決手段】不等刻線間隔1軸回折格子6が、白色光源1から生成された白色光束4を入射するよう設けられ、不等間隔で並んだ線状パターンを有している。光ファイバ8、11が、それぞれ集光レンズ9、12を介して、回折格子6で発生した+1次および-1次回折光束群を集光する。光カプラ13が、光ファイバ8で取得した光と光ファイバ11で取得した光とを合流する。分析器14が、光カプラ13で合流した光のスペクトルを分析する。信号処理部16が、線状パターンに対して垂直かつ回折格子6の表面の垂線に対して垂直な方向に関する回折格子6の絶対位置を、分析器14で分析した光スペクトルをもとに検出したピーク波長から検出する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

白色光源と、前記白色光源から照射される白色光から白色光束を生成する変換部と、前記白色光束を入射するよう設けられ、不等間隔で並んだ線状パターンを有する回折格子と、前記回折格子で発生した+1次回折光束群を集光する第1ファイバ集光レンズと、前記第1ファイバ集光レンズの後方焦点位置に開口を設置した+1次回折光束群用ファイバと、前記回折格子で発生した-1次回折光束群を集光する第2ファイバ集光レンズと、前記第2ファイバ集光レンズの後方焦点位置に開口を設置した-1次回折光束群用ファイバと、前記+1次回折光束群用ファイバで取得した光と前記-1次回折光束群用ファイバで取得した光とを合流する光カプラと、前記光カプラで合流した光のスペクトルを分析する分析器と、前記線状パターンに対して垂直かつ前記回折格子の表面の垂線に対して垂直な方向に関する前記回折格子の絶対位置を、前記分析器で分析した光スペクトルをもとに検出したピーク波長から検出するよう構成された信号処理部とを、有することを特徴とする絶対位置測定装置。

IPC (2)：

G01D 5/353 , G01D 5/347

FI (2)：

G01D5/353 Z , G01D5/347 C

F-Term (14)：

2F103CA03 , 2F103CA04 , 2F103CA08 , 2F103DA06 , 2F103DA12 , 2F103EA15 , 2F103EB02 , 2F103EB11 , 2F103EB32 , 2F103EC04 , 2F103EC09 , 2F103EC10 , 2F103EC16 , 2F103FA02

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

特開平3-015719
変位検出装置及びスケール
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2013-224094 Applicant：DMG森精機株式会社
スペクトルを用いた干渉計エンコーダ
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2017-502176 Applicant：ザイゴコーポレーション

Show all

Return to Previous Page