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J-GLOBAL ID：202003016083179446

結晶膜の製造方法

Inventor： 大島 祐一 ,  藤田 静雄 ,  金子 健太郎 ,  嘉数 誠 ,  河原 克明 ,  四戸 孝 ,  松田 時宜 ,  人羅 俊実
Applicant, Patent owner： 国立大学法人佐賀大学
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2018154236
Publication number (International publication number)：2020001997
Application date： Aug. 20, 2018
Publication date： Jan. 09, 2020
Summary：

【課題】高品質な結晶膜が工業的有利に得られる結晶膜の製造方法を提供する。【解決手段】金属を含む金属源をガス化して金属含有原料ガスとし、ついで、前記金属含有原料ガスと、酸素含有原料ガスとを反応室内の基板上に供給して成膜する結晶膜の製造方法であって、前記基板が、表面に凹部または凸部からなる凹凸部が形成されており、反応性ガスを前記基板上に供給し、前記成膜を、前記反応性ガスの流通下で行うことにより、高品質な結晶膜を成膜し、得られた結晶膜を、半導体装置等に用いる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

金属源をガス化して金属含有原料ガスとし、ついで、前記金属含有原料ガスと、酸素含有原料ガスとを反応室内の基板上に供給することにより金属酸化物の結晶膜を成膜する結晶膜の製造方法であって、前記基板が、表面に凹部または凸部からなる凹凸部が形成されており、反応性ガスを前記基板上に供給し、前記成膜を、前記反応性ガスの流通下で行うことを特徴とする結晶膜の製造方法。

IPC (5)：

C30B 29/16 ,  C30B 25/02 ,  C23C 16/40 ,  C23C 16/02 ,  H01L 29/872

FI (5)：

C30B29/16 ,  C30B25/02 Z ,  C23C16/40 ,  C23C16/02 ,  H01L29/86 301D

F-Term (99)：

4G077AA03 ,  4G077AB01 ,  4G077AB02 ,  4G077BB10 ,  4G077DB05 ,  4G077EA02 ,  4G077EA06 ,  4G077EC01 ,  4G077ED04 ,  4G077ED06 ,  4G077EF01 ,  4G077EF02 ,  4G077HA02 ,  4G077HA12 ,  4G077TB04 ,  4G077TC01 ,  4G077TC03 ,  4G077TK01 ,  4G077TK04 ,  4G077TK08 ,  4K030AA03 ,  4K030AA14 ,  4K030AA17 ,  4K030BA08 ,  4K030BA42 ,  4K030BB02 ,  4K030CA05 ,  4K030CA12 ,  4K030JA03 ,  4K030JA10 ,  4K030JA12 ,  4K030LA12 ,  5F045AA00 ,  5F045AA04 ,  5F045AA15 ,  5F045AA19 ,  5F045AB40 ,  5F045AC00 ,  5F045AC11 ,  5F045AC13 ,  5F045AC15 ,  5F045AC16 ,  5F045AD08 ,  5F045AD09 ,  5F045AD10 ,  5F045AD11 ,  5F045AD12 ,  5F045AD13 ,  5F045AD14 ,  5F045AE01 ,  5F045AE29 ,  5F045AF01 ,  5F045AF02 ,  5F045AF03 ,  5F045AF04 ,  5F045AF06 ,  5F045AF07 ,  5F045AF09 ,  5F045AF12 ,  5F045AF13 ,  5F045BB08 ,  5F045BB13 ,  5F045CA05 ,  5F045CA07 ,  5F045CA09 ,  5F045CA13 ,  5F045CA15 ,  5F045CB02 ,  5F045DA52 ,  5F045DA53 ,  5F045DA67 ,  5F045DP02 ,  5F045DP04 ,  5F045DP07 ,  5F045DQ06 ,  5F045DQ08 ,  5F045EC02 ,  5F045EE02 ,  5F045EE04 ,  5F045EE14 ,  5F045EF02 ,  5F045EK06 ,  5F045EK08 ,  5F045HA02 ,  5F053AA50 ,  5F053BB05 ,  5F053BB13 ,  5F053DD20 ,  5F053FF01 ,  5F053HH01 ,  5F053HH05 ,  5F053KK01 ,  5F053KK02 ,  5F053KK10 ,  5F053LL01 ,  5F053LL04 ,  5F053LL10 ,  5F053RR04 ,  5F053RR05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭57-091539
  
• 特開昭57-091539