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J-GLOBAL ID:202003019248972978

超解像度立体視化処理システム及びそのそのプログラム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 水野 浩司 ,  松下 亮 ,  納口 慶太
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2019230313
Patent number:6692984
Application date: Dec. 20, 2019
Summary:
【課題】地理院のDEMを用いた赤色立体視画像を拡大したとしも、ジャッギー(ギザギザ)の発生を抑えて、かつ詳細な解像度で凹凸の画像で見せることができる超解像度立体視化処理システムを得る。 【解決手段】 5mDEM基盤地図Faを記憶した基盤地図用データベース110と、5mDEMメッシュ読込部112と、地理座標用XYZポイントファイル114と、平面直角座標変換部115と、平面直角用XYZポイントファイル118と、ラスタ化処理部135と、微細格子用メモリ142(レイヤ)と、滑か処理部141と、滑か画像用メモリ147(レイヤ)と、考慮距離格子数算出部148と、赤色立体視画像生成部145と、赤色立体視画像用メモリ149(レイヤ)等を備えて、5mDEMの超解像度赤色立体化視画像Gai ́を表示部200の画面に得る。 【選択図】図3
Claim (excerpt):
【請求項1】(A).数値標高モデル用メモリに記憶されている数値標高モデルの所定エリアの緯度経度のメッシュ群を平面直角座標で平面直角座標用メモリに定義する手段と、 (B).前記平面直角座標用メモリに定義された平面直角座標のメッシュ群の各々のX方向の辺を均等に奇数(1:含まず)に分割する分割距離を求める手段と、 (C).前記所定エリアに対応する領域の二次元平面(X-Y)をメモリに定義し、このメモリの二次元平面(X-Y)を前記分割距離で分割して前記二次元平面(X-Y)に前記分割距離のサイズの微細格子を定義する手段と、 (D).前記二次元平面(X-Y)に前記平面直角座標のメッシュ群を定義して、前記微細格子の標高値を補間した補間後標高値を求める手段と、 (E1).前記サイズの格子を平滑用格子とし、この平滑用格子を縦横に前記奇数の個数で配列した平滑用格子群よりなる平滑メッシュを生成する手段と、 (E2).前記二次元平面(X-Y)に定義された前記微細格子を順次指定し、この指定された微細格子毎に前記平滑メッシュの中央の平滑用格子を、その微細格子に定めて前記二次元平面(X-Y)に前記平滑メッシュを定義し、この平滑メッシュにおける微細格子群の補間後標高値群に基づいて平滑した平滑後標高値を求め、この平滑後標高値を前記指定した微細格子に割り付ける手段と、 (F).前記二次元平面(X-Y)の微細格子に前記平滑後標高値が割り付けられる毎に、この微細格子を着目点とし、この着目点毎に、この着目点からの考慮距離を前記分割距離に対応する微細格子数で定義し、この微細格子数内における浮沈度を求めて、この浮沈度を諧調表示する手段と を有することを特徴とする超解像度立体視化処理システム。
IPC (3):
G09B 29/00 ( 200 6.01) ,  G06T 17/05 ( 201 1.01) ,  G06T 3/40 ( 200 6.01)
FI (3):
G09B 29/00 A ,  G06T 17/05 ,  G06T 3/40 700
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (5)
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Article cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (2)

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