Pat

J-GLOBAL ID：202003020337025093

アリールボロン酸誘導体の製造方法、および該アリールボロン酸誘導体を用いた放射性フッ素標識化合物の製造方法

Inventor： 木村 寛之 ,  有光 健治 ,  屋木 祐亮 ,  平野 圭市
Applicant, Patent owner： 学校法人京都薬科大学 ,  エヌ・エム・ピイビジネスサポート株式会社 ,  日本メジフィジックス株式会社
Agent (1)： 特許業務法人SSINPAT
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2018116979
Publication number (International publication number)：2019218302
Application date： Jun. 20, 2018
Publication date： Dec. 26, 2019
Summary：

【課題】アリール基に18Fが導入された放射性フッ素標識化合物を簡便かつ短時間に製造することができる方法を提供すること。【解決手段】特定のジアリールヨードニウム塩と放射性フッ化物イオンとを反応させる反応工程を含む、下記式(3)で表わされるアリールボロン酸誘導体の製造方法、および、該アリールボロン酸誘導体と脱離基を有する有機化合物とをクロスカップリング反応させる工程を含む、放射性フッ素標識化合物の製造方法。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

下記式(1)で表わされるジアリールヨードニウム塩と、放射性フッ化物イオンとを反応させる反応工程を含む、下記式(3)で表わされる放射性フッ素原子を含有するアリールボロン酸誘導体の製造方法。 [Rx-Ar1-I+-Ar2][X-] (1) [式(1)中、Rxは下記式(2)で表わされる基であり、Ar1は置換基を有していてもよい2価のアリール基であり、Ar2は置換基を有していてもよい1価のアリール基であり、X-は1価の陰イオンである。]

IPC (3)：

C07F 5/02 ,  B01J 31/02 ,  B01J 31/22

FI (3)：

C07F5/02 C ,  B01J31/02 103Z ,  B01J31/22 Z

F-Term (39)：

4G169AA06 ,  4G169BA21A ,  4G169BA21B ,  4G169BA27A ,  4G169BA27B ,  4G169BC31A ,  4G169BC31B ,  4G169BE01A ,  4G169BE01B ,  4G169BE02A ,  4G169BE08A ,  4G169BE18B ,  4G169BE20A ,  4G169BE20B ,  4G169BE22A ,  4G169BE22B ,  4G169BE34B ,  4G169BE36A ,  4G169BE38A ,  4G169BE38B ,  4G169CB25 ,  4G169CB69 ,  4G169DA02 ,  4H039CA51 ,  4H039CD20 ,  4H039CD90 ,  4H048AA01 ,  4H048AA02 ,  4H048AC30 ,  4H048BA05 ,  4H048BA51 ,  4H048BB21 ,  4H048BB31 ,  4H048BC10 ,  4H048BE61 ,  4H048VA11 ,  4H048VA22 ,  4H048VA77 ,  4H048VB10