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J-GLOBAL ID：202102216864199440   Reference number：21A1838507

Analysis of Cause and Control Measures for Pinholes in the Production of Chromium Mask

ホモジネートクロム板ピンホールの成因分析と管制御研究【JST・京大機械翻訳】

Author (4)： Li Wei (中南大学 材料科学与工程学院,湖南 長沙410083;湖南普照信息材料有限公司,湖南 長沙410205) ,  Yu Zhiming (中南大学 材料科学与工程学院,湖南 長沙410083) ,  Wei Qiuping (中南大学 材料科学与工程学院,湖南 長沙410083) ,  Xia Xin (中南大学 材料科学与工程学院,湖南 長沙410083)
Material： Kuangye Gongcheng  (Koya Kotei)
Volume： 41  Issue： 2  Page： 134-137  Publication year： 2021 
JST Material Number： T0909A  ISSN： 0253-6099  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： China (CHN)  Language： CHINESE (ZH)

Thesaurus term： bubble ,  impurity ,  Quartz ,  *Chromium ,  Bacteria ,  control system (computer) ,  hygiene ,  characterization ,  production process ,  plating film ,  pin hole ,  glass substrate ,  DC magnetron sputtering ,  microorganism

JST classification (1)： Concentrate treatment  (UA07120W)

Terms in the title (4)： ピンホール ,  成因 ,  分析 ,  研究