超音波処理装置および超音波処理方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (2)：松谷道子 , 吉田環
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2019114003
Publication number (International publication number)：2021000579
Application date： Jun. 19, 2019
Publication date： Jan. 07, 2021
Summary：

【課題】被処理物を効率的かつ均一に超音波処理することが可能な超音波処理装置を提供する。【解決手段】被処理物を超音波処理するための超音波処理装置であって、第1の液体が入れられる処理槽と、前記処理槽内にて前記第1の液体と接触するように配置され、かつ、被処理物および第2の液体が流れる流路と、前記処理槽に設置される超音波振動子とを含み、前記流路が、前記超音波振動子から発せられる超音波の進行方向と、間隔を有して少なくとも2回交わり、該間隔が該超音波の波長の1/2の整数倍±5%以内である、超音波処理装置。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

被処理物を超音波処理するための超音波処理装置であって、第1の液体が入れられる処理槽と、前記処理槽内にて前記第1の液体と接触するように配置され、かつ、被処理物および第2の液体が流れる流路と、前記処理槽に設置される超音波振動子とを含み、前記流路が、前記超音波振動子から発せられる超音波の進行方向と、間隔を有して少なくとも2回交わり、該間隔が該超音波の波長の1/2の整数倍±5%以内である、超音波処理装置。

IPC (1)：

B08B 3/12

FI (1)：

B08B3/12 D

F-Term (5)：

3B201AA46 , 3B201AB13 , 3B201BB02 , 3B201BB82 , 3B201BB85

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

金属超微粒子の製造方法及び製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-075770 Applicant：中崎義晃, 株式会社プラネット
金属粒子の製造方法および製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2016-030863 Applicant：国立大学法人東北大学, パナソニック株式会社
超音波連続洗浄装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-368395 Applicant：株式会社御池鐵工所, オール・ウェイスト・リサイクル株式会社

Show all

Return to Previous Page