Pat
J-GLOBAL ID：202103004046570568
ナノホールが形成されたナノ粒子、並びに、ナノ粒子、ナノ構造体およびナノ構造体アレイの作製方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
特許業務法人グローバル知財
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2019235317
Publication number (International publication number)：2021102544
Application date： Dec. 25, 2019
Publication date： Jul. 15, 2021
Summary：
【課題】アクセシブルな磁場増強部位を有する誘電体ナノ粒子、特に、結晶シリコンナノ粒子を提供する。【解決手段】誘電体ナノ粒子は、屈折率が3以上である無機材料から成り、粒子1表面にナノホール5が形成される。ナノホール5を形成することにより、ミー共鳴による磁場増強効果を利用して、ナノホール5内の空間に新しい光化学反応場としてのアクセシブルな増強磁場4を提供できる。誘電体ナノ粒子として結晶シリコンナノ粒子が用いられ、表面にナノホールが形成される。ナノ粒子の平均粒径は、光(紫外〜近赤外線)の周波数領域において、光6を入射すると、ナノ構造内部に増強磁場を誘起するため、好ましくは100〜250nmの範囲である。表面にナノホール5を形成させたナノ粒子において、増強磁場4を誘起できるナノホール5内の空間に、外部から分子7の導入することが可能であり、磁場増強部位を光化学反応場として活用できる。【選択図】図4
Claim (excerpt)：
屈折率が3以上である無機材料から成り、
粒子表面にナノホールが形成された誘電体ナノ粒子。
IPC (2)：
FI (2)：
C30B29/06 A
, C01B33/02 Z
4G072AA01
, 4G072BB05
, 4G072BB07
, 4G072DD06
, 4G072GG02
, 4G072GG03
, 4G072HH01
, 4G072JJ09
, 4G072MM01
, 4G072NN11
, 4G072NN27
, 4G072RR11
, 4G072RR15
, 4G072TT01
, 4G072TT30
, 4G072UU30
, 4G077AA01
, 4G077BA04
Cited by examiner (2)
-
表面孔を有するシリコン微粒子の製造方法、及びシリコン微粒子
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2018-192870
Applicant：学校法人東京電機大学
-
抗菌材料及びこれを備えた抗菌部材
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2018-186538
Applicant：学校法人関西大学, 国立研究開発法人情報通信研究機構
Article cited by the Patent：
Cited by examiner (1)
-
第15回光物性研究会論文集, 2004, pp.349-352
Return to Previous Page
