凹凸構造体の製造方法

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (3)：川北喜十郎 , 藤田正広 , 川津幸恵
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2020040738
Publication number (International publication number)：2021142647
Application date： Mar. 10, 2020
Publication date： Sep. 24, 2021
Summary：

【課題】効率的で、且つ凹凸構造体の形状の設計変更に容易に対応可能な凹凸構造体の製造方法を提供する。【解決手段】凹凸構造体の製造方法であって、基材上に、オキセタン化合物を含む光重合性組成物の塗膜を形成することと、前記塗膜が形成された基材を45°C〜65°Cに加熱しながら、前記塗膜に所定のパターンで照射強度1.5mW/cm2〜30mW/cm2の光を照射して、表面に凹凸を有する高分子膜を形成することと、を含む。前記オキセタン化合物が、メソゲン基を有する単官能性オキセタン化合物、及び2官能性オキセタン化合物の少なくとも一方であり、前記所定のパターンは、前記光が前記塗膜に照射される明部と、前記光が前記塗膜に照射されない暗部とから構成され、前記暗部の幅が20μm〜200μmである。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

凹凸構造体の製造方法であって、基材上に、オキセタン化合物を含む光重合性組成物の塗膜を形成することと、前記塗膜が形成された基材を45°C〜65°Cに加熱しながら、前記塗膜に所定のパターンで照射強度1.5mW/cm2〜30mW/cm2の光を照射して、表面に凹凸を有する高分子膜を形成することと、を含み、前記オキセタン化合物が、メソゲン基を有する単官能性オキセタン化合物、及び2官能性オキセタン化合物の少なくとも一方であり、前記所定のパターンは、前記光が前記塗膜に照射される明部と、前記光が前記塗膜に照射されない暗部とから構成され、前記暗部の幅が20μm〜200μmである、凹凸構造体の製造方法。

IPC (2)：

B29C 59/16 , G03F 7/20

FI (2)：

B29C59/16 , G03F7/20 501

F-Term (18)：

2H197CA04 , 2H197CA05 , 2H197DB06 , 2H197HA06 , 2H197HA08 , 4F209AA39A , 4F209AA44A , 4F209AB04 , 4F209AB10A , 4F209AF01 , 4F209AG05 , 4F209AH73 , 4F209PA15 , 4F209PA18 , 4F209PB01 , 4F209PJ06 , 4F209PN09 , 4F209PN13

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

凹凸構造を有する物品およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2014-157721 Applicant：富士フイルム株式会社
光学異方性高分子膜、有機EL表示装置及び液晶表示装置の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2016-089011 Applicant：エルジーディスプレイカンパニーリミテッド, 国立大学法人東京工業大学
凹凸構造を有する物品の製造方法および凹凸構造を有する物品
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2015-167014 Applicant：富士フイルム株式会社

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