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J-GLOBAL ID：202103008849371721

間葉系幹細胞からインスリン産生細胞を製造する方法、インスリン産生細胞、細胞構造体および医薬組成物

Inventor： 中村 健太郎 ,  島田 光生 ,  池本 哲也
Applicant, Patent owner： 富士フイルム株式会社 ,  国立大学法人徳島大学
Agent (1)： 特許業務法人特許事務所サイクス
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP2018041639
Publication number (International publication number)：WO2019093468
Application date： Nov. 09, 2018
Publication date： May. 16, 2019
Summary：

本発明の課題は、間葉系幹細胞から、十分なグルコース応答性を有するインスリン産生細胞を製造する方法、十分なグルコース応答性を有するインスリン産生細胞、上記インスリン産生細胞を含む細胞構造体、および医薬組成物を提供することである。本発明によれば、(a)複数個の生体親和性高分子ブロックと、複数個の間葉系幹細胞とをインキュベートすることによって細胞構造体を製造する工程、(b)工程(a)においてインキュベートする前の間葉系幹細胞、工程(a)においてインキュベートしている間葉系幹細胞、または工程(a)で製造した細胞構造体のいずれか一以上を、GLP-1受容体作動薬を含む培地中で培養する工程、および(c)工程(a)または工程(b)で得られた細胞構造体を、水溶性ビタミンおよび肝細胞増殖因子を含む培地中で培養する工程を含む、間葉系幹細胞からインスリン産生細胞を製造する方法が提供される。

Claim (excerpt)：

間葉系幹細胞からインスリン産生細胞を製造する方法であって、 (a)複数個の生体親和性高分子ブロックと、複数個の間葉系幹細胞とをインキュベートすることによって、複数個の生体親和性高分子ブロックと、複数個の間葉系幹細胞とを含み、複数個の前記間葉系幹細胞の隙間に、少なくとも1個の前記生体親和性高分子ブロックが配置されている細胞構造体を製造する工程、 (b)工程(a)においてインキュベートする前の間葉系幹細胞、工程(a)においてインキュベートしている間葉系幹細胞、または工程(a)で製造した細胞構造体のいずれか一以上を、GLP-1受容体作動薬を含む培地中で培養する工程、および (c)工程(a)または工程(b)で得られた細胞構造体を、水溶性ビタミンおよび肝細胞増殖因子を含む培地中で培養する工程、 を含む方法。

IPC (4)：

C12N 5/077 ,  C12N 5/071 ,  A61P 3/10 ,  A61K 35/12

FI (4)：

C12N5/0775 ,  C12N5/071 ,  A61P3/10 ,  A61K35/12

F-Term (11)：

4B065AA87X ,  4B065AA90X ,  4B065AA93X ,  4B065BD25 ,  4B065BD39 ,  4B065CA44 ,  4C087AA01 ,  4C087AA02 ,  4C087BB63 ,  4C087NA14 ,  4C087ZC35